СОДЕРЖАНИЕ
Введение
1. Технологические особенности применения электроннолучевой обработки при изготовлении электронных приборов.
1.1. Особенности стекол применяемых в производстве оптикоэлектронных приборов искусственных спутников земли Л
1.2. Методы и физикотехнологические особенности подготовки поверхности оптических деталей электронных приборов.
1.3. Локальные температурные напряжения при оплавлении стекла высокоэнергетическими пучками
1.4. Химическая чистота поверхности оптической детали из стекла
1.5. Влияние состояния поверхности оптической детали из стекла на формируемые пленочные структуры
1.6. Выводы по обзору и основные направления исследования .
2. Анализ физикотехнологических процессов, протекающих при электроннолучевой обработке оптических деталей из стекла, и влияния обработки на электроннооптические характеристики прибора
2.1. Температурный режим в ванне расплава
2.2. Анализ термодинамических процессов протекающих в поверхностной области стекла при электроннолучевой обработке
2.3. Выводы по второй главе
3. Оборудование и экспериментальные методы исследований
3.1. Принцип электроннолучевой обработки подложек из диэлектрических материалов.
3.2. Оборудование и оснастка для обработки электронным лучом
3.3. Методы и методики исследования поверхности
3.4. Основные результаты третьей главы.
4. Результаты электроннолучевой обработки оптических деталей
4.1. Влияние электроннолучевой . обработки на плоскостность пластины и условия е сохранения
4.2. Влияние электроннолучевой обработки на поверхность подложек
4.3. Исследования оптических характеристик подложек фильтров из боролантанового стекла типа СТК9
4.4. Электроннолучевая модификация элементного состава поверхности подложек фильтров из боролантанового стекла типа СТК9
4.5. Разработка лабораторной технологии электроннолучевой обработки.
4.6. Исследование эксплуатационных свойств поверхности оптических деталей
4.7. Выводы по четвертой главе.
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ РАБОТЫ.
Список использованных источников
- Київ+380960830922