- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Научные основы и практические аспекты разработки технологии создания тонких полупроводниковых слоев кремния на изолирующих подложках применением процессов ионной обработки
Тип роботи:
докторская
Рік:
2011
Кількість сторінок:
278
Артикул:
232995 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Молекулярно-лучевая эпитаксия гетероэпитаксиальных структур SiGe/Si
- Защитные тонкопленочные покрытия на основе нитридов элементов III и IV групп периодической системы : Получение, свойства и применение
- Выращивание и исследование легированных монокристаллов ниобата бария-стронция
- Получение гетероструктур на основе германия и арсенида индия для термофотоэлектрических преобразователей
- Разработка, исследование и моделирование процессов изготовления интегрально-оптических элементов в кристаллах ниобата лития
- Повышение однородности состава и равномерности толщины многослойных тонкопленочных покрытий на поверхностях большого размера
- Выращивание плазменными методами пленок алмаза и родственных материалов (алмазоподобных, нитрида алюминия, оксида цинка) и применение многослойных структур на основе этих пленок в микро- и акустоэлектронике
- Применение зондирующего СВЧ электромагнитного излучения для определения рекомбинационных свойств полупроводников
- Разработка методов проектирования миниатюрных низковакуумных насосов для оборудования электронной техники
- Технология получения тонкопленочных структур для оптоэлектроники на основе опытной установки ионно-лучевого осаждения