Разработка технологических основ электронно-лучевого формирования поверхности монокристаллических подложек SiC для создания микро- и наноструктур

ОГЛАВЛЕНИЕ
Список сокращений
Введение.
Глава 1. Влияние поверхности подложек БЮ на формирование микро и наноструктур
1.1 Влияние поверхности подложек БЮ на эпитаксиальный слой и характеристики приборных структур.
1.2 Методы формирования поверхности подложек в1С
1.3 Термодинамические процессы в системах С и 8Ю
1.4 Выводы, постановка цели и задач.
Глава 2. Анализ физикохимических процессов формирования поверхности подложек С при ЭЛО структуры
2.1 Тепловые процессы.
2.2 Анализ термоуиругих напряжений
2.3 Анализ термокапиллярных процессов в зоне жидкой фазы
2.4 Термодинамический анализ реакций межфазного взаимодействия и структуре расплав подложка С.
2.5 Синтез и разложение БЮ в расплаве
2.6 Кинетика процесса растворения БЮ в расплаве Б1
2.8 Выводы.
Глава 3. Влияние ЭЛО на физические характеристики поверхности подложек вЮ и электрофизические характеристики контактов Т1п6НС
3.1 Экспериментальные методы исследований.
3.2 Исследование шероховатости поверхности подложек БЮ
3.3 Исследование режимов формирования поверхности подложек С при ЭЛО.
3.4 Исследование влияния режимов ЭЛО на параметры контактов Т16НС.
3.5 Разработка технологического процесса электроннолучевого формирования поверхности монокристалл ических подложек Б КЗ.
3.6 Выводы.
Заключение
Список используемых источников