- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Влияние природы полимерной матрицы, фоточувствительного генератора кислоты и физических факторов на литографические свойства химически усиленных фоторезистов
Тип роботи:
Кандидатская
Рік:
2012
Артикул:
327082 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Растворимость и кристаллизация высокомолекулярных восковых соединений в маслосодержащих системах
- Катализ в синтезе гиперразветвленных сложных полиэфиров
- Синтез ковалентных конъюгатов декстран - пространственно-затрудненные фенолы и изучение их антирадикальной активности
- Синтез, структура и свойства поли-П-ксилиленовых композитных пленок с металлическими и полупроводниковыми частицами
- Ингибирование термо- и фотоокислительной деструкции полиэтилена высокой плотности соединениями, содержащими азометиновые группы
- Особенности криополимеризации акриламида в неглубоко замороженной водной среде
- Смесевые композиции на основе полиэтилена и высших поли-?-олефинов, полученные полимеризацией in situ на титан-магниевых катализаторах
- Конструирование макромолекулярных структур с химической и физической сеткой на основе (мет)акрилатов методом радикальной сополимеризации
- Взаимодействие макромолекул с наночастицами металлов и псевдоматричный синтез золей полимер-металлических нанокомпозитов
- Анализ эмульсионных систем полимеризации и микроструктуры сополимеров на основе бутадиена и изопрена спектроскопией ЯМР IH