ВВЕДЕНИЕ.
1 АНАЛИЗ СОВРЕМЕННОГО СОСТОЯНИЯ ВОПРОСА И ФОРМУЛИРОВКА ЗАДАЧИ ИССЛЕДОВАНИЯ.
1.1 Влияние параметров технологического процесса
электроннолучевого испарения на качество покрытий.
1.1.1 Получение покрытий методом
электроннолучевого испарения
1.1.2 Влияние нестабильности параметров распределения мощности электронного пучка
по поверхности испаряемого материала на качество покрытий
1.2 Анализ требований
к датчику распределения мощности электронного пучка
и системе автоматической стабилизации параметров распределения
1.3 Классификация известных методов измерения
распределения мощности электронного пучка
1.4 Методы измерения
распределения мощности электронного пучка
1.4.1 Метод проволочного зонда.
1.4.2 Метод щелевого зонда.
1.4.3 Метод тонкопленочного зонда
1.4.4 Метод матричной мишени.
1.4.5 Метод прямого кругового среза
1.4.6 Метод рентгеновского излучения.
1.4.7 Метод вторичной электронной эмиссии
1.5 Сравнение методов измерения
распределения мощности электронного пучка
1.6 Формулировка задачи исследования.
1.7 Выводы по главе 1.
2 РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ ДАТЧИКА
РАСПРЕДЕЛЕНИЯ МОЩНОСТИ ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА
2.1 Вторичноэмиссионный метод измерения
распределения мощности электронного пучка
по поверхности испаряемого материала
2.2 Математическая модель процесса формирования
выходного сигнала чувствительного элемента
2.3 Датчик распределения мощности электронного пучка
2.3.1 Чувствительный элемент датчика
2.3.2 Расчет выходного сигнала чувствительного элемента.
2.3.3 Расчет статических характеристик датчика
как элемента автоматики.
2.3.4 Вычислитель параметров выходного сигнала чувствительного элемента датчика.
2.3.5 Расчет погрешности датчика
2.3.6 Статические и динамические параметры датчика
как элемента автоматики.
2.4 Выводы по главе 2.
3 РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ СИСТЕМЫ АВТОМАТИЧЕСКОЙ СТАБИЛИЗАЦИИ ПАРАМЕТРОВ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ МОЩНОСТИ ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА
3.1 Разработка структурных схем системы.
3.2 Выбор способа технической реализации
цифрового вычислительного комплекса.
3.3 Статические и динамические характеристики звеньев системы, входящих в электроннолучевые установки для нанесения покрытий.
3.4 Разработка алгоритмов управления.
3.5 Разработка цифрового регулятора.
3.6 Анализ контура стабилизации траектории развертки
в динамическом режиме.
3.7 Анализ контура стабилизации фокусировки
в динамическом режиме.
3.8 Выводы по главе 3
4 ТЕХНИЧЕСКАЯ РЕАЛИЗАЦИЯ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ДАТЧИКА РАСПРЕДЕЛЕНИЯ МОЩНОСТИ ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА И СИСТЕМЫ АВТОМАТИЧЕСКОЙ СТАБИЛИЗАЦИИ ПАРАМЕТРОВ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ.
4.1 Опытные образцы чувствительного элемента
и устройства сопряжения с объектом.
4.2 Программное обеспечение
цифрового вычислительного комплекса
4.3 Оборудование и техника экспериментов.
4.4 Результаты экспериментального исследования
датчика распределения мощности электронного пучка
4.5 Результаты экспериментального исследования контура стабилизации траектории развертки системы автоматической стабилизации
параметров распределения мощности электронного пучка.
4.6 Выводы по главе 4
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ
- Київ+380960830922