Оглавление
СПИСОК ОБОЗНАЧЕНИЙ
ВВЕДЕНИЕ
1 МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ОСНОВА ПРАКТИЧЕСКОГО ПРИМЕНЕНИЯ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
1.1 Применение ВЧ плазмы пониженного давления в технике и
технологии.
1.2 Основные физические процессы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел
1.3 Теоретические исследования высокочастотных разрядов . .
1.4 Задачи диссертации.
2 ФИЗИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
2.1 Принципиальная схема высокочастотной плазменной установки для обработки твердых тел при пониженном давлении
и методы экспериментальных исследований .
2.2 Основные характеристики процесса обработки твердых тел в
высокочастотной плазме пониженного давления
2.2.1 Характеристики квазинейтралыюй плазмы высокочастотных разрядов пониженного давления в процессе обработки твердых тел.
2.2.2 Характеристики взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с обрабатываемым телом.
2.3 Взаимодействие высокочастотной плазмы пониженного давления с твердым телом .
2.4 Основные параметры процесса высокочастотной плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении
3 МАТЕМАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
3.1 Общая система гидродинамических уравнений квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления
3.2 Прямой метод расчета напряженностей высокочастотных электрического и магнитного полей в среде с неоднородной проводимостью
3.3 Двумерная двухтемпературная самосогласованная математическая модель квазинейтралыюй ВЧ плазмы пониженного давления
3.3.1 Постановка граничных условий
3.3.2 Система краевых задач.
3.3.3 Самосогласованность системы краевых задач
3.4 Математическая модель слоя положительного заряда возле обрабатываемого тела.
3.4.1 Структура СПЗ .
3.4.2 Система задач колебательной части СПЗ.
3.4.3 Система задач двойного слоя
3.5 Общий обзор построенной модели
4 АЛГОРИТМ И МЕТОДЫ РАСЧЕТА ОСНОВНЫХ ПАРАМЕТРОВ ПРОЦЕССА ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ ПРИ ПОНИЖЕННОМ ДАВЛЕНИИ
4.1 Общий алгоритм расчета основных параметров взаимодействия высокочастотной плазмы пониженного давления с твердыми телами
4.2 Алгоритм и численный метод расчета характеристик квазинейтральной ВЧ плазмы пониженного давления.
4.2.1 Краевая задача для уравнения диффузии электронов
4.2.2 Подсистема краевых задач для характеристик электромагнитного поля.
4.2.3 Краевые задачи для уравнений сохранения энергии электронного и атомноионного газов
4.2.4 Дискретизация краевых задач.
4.2.5 Газодинамическая задача.
4.3 Алгоритм и численный метод расчета характеристик СПЗ около обрабатываемого тела .
4.4 Пакет программ расчета параметров процесса ВЧ плазменной обработки твердых тел при пониженном давлении .
4.5 Выводы но главе 4
5 ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ПРОЦЕССА ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
5.1 Постановка задачи численного экспериментирования
5.2 Характеристики высокочастотной плазмы пониженного давления .
5.2.1 Концентрация электронов.
5.2.2 Напряженность магнитного поля.
5.2.3 Напряженность электрического ноля и плотность тока
5.2.4 Температура плазменной струи
5.3 Характеристики процесса обработки твердых тел в высокочастотной плазме пониженного давления.
5.4 Выводы по главе.
6 ПРАКТИЧЕСКИЕ ПРИМЕНЕНИЯ МАТЕМАТИЧЕСКОЙ МОДЕЛИ ОБРАБОТКИ ТВЕРДЫХ ТЕЛ В ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ
6.1 Методика проведения численных экспериментов при проектировании ВЧ плазменных установок, работающих при пониженных давленияхи.
6.2 Методика проведения численных экспериментов при разработке технологических процессов обработки твердых тел с использованием ВЧ плазмы пониженного давления.
6.3 Пример технологические процессы полировки изделий .
6.3.1 Методика исследований и материалы.
6.3.2 Результаты обработки поверхностей твердых тел .
6.3.3 Результаты применения математического моделирования
6.4 Выводы по главе.
ВЫВОДЫ
ЛИТЕРАТУРА
- Київ+380960830922