ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА I. АППАРАТУРА И МЕТОДЫ ИЗМЕРЕНИЯ ОСНОВНЫХ ПОЛЯРИЗАЦИОННООПТИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ В
ЭЛЛИПСОМЕТРИИ ОТРАЖАЮЩИХ СИСТЕМ .
1.1. Методы компенсационной нулевой эллипсометрии .
1.2. Методы переключения состояния поляризации светового
пучка .
1.3. Методы азимутальной и фазовой модуляции поляризованного светового пучка .
1.4. Методы многоугловой и иммерсионной эллипсометрии .
Выводы .
ГЛАВА II. ПОЛЯРИЗАЦИОННООПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА НЕОДНОРОДНЫХ АНИЗОТРОПНЫХ СЛОЕВ И ШЕРОХОВАТЫХ
ПОВЕРХНОСТЕЙ .
2.1 Определение оптических характеристик неоднородных и анизотропных отражающих систем .
2.1.1 Показатель преломления неоднородного поверхностного
2.1.2 Эффективная диэлектрическая проницаемость и толщина поверхностного слоя .
2.2 Поляризационнооптические свойства неоднородных и анизотропных поверхностных слоев .
2.2.1 Обобщенное уравнение эллипсометрии в приближении теории ДрудеБорна для неоднородных анизотропных слоев .
2.2.2 Анализ области применимости точных и приближенных теорий отражения поляризованного света от
неоднородных слоев .
2.2.3 Основные закономерности изменения состояния поляризации
светового пучка отраженного от неоднородного слоя .
2.3 Поляризационнооптические свойства шероховатой поверхности диэлектриков и полупроводников .
Выводы .
ГЛАВА 1П. МЕТОДЫ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРНОЙ ТЕХНИКИ .
3.1 Влияние неоднородности физикохимической структуры кварцевого стекла на потери излучения в УФ области спектра .
3.2 Методы эллипсометрического анализа неоднородных поверхностных слоев элементов лазерной техники .
3.3 Определение потерь излучения в оптических элементах методами эллипсометрии и спектрофотометрии .
Выводы .
ГЛАВА IV. ПОЛЯРИЗАЦИОННООПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА
ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ СИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ И КРИСТАЛЛОВ ПРИ ИОННОЙ И ЭЛЕКТРОННОЛУЧ ЕВОЙ
ОБРАБОТКЕ .
4.1 Поляризационнооптические свойства поверхностного слоя при ионноплазменной и иониохим и ческой модификации структуры кристаллического и плавленого кварца .
4.2 Поляризационнооптические свойства поверхностного слоя при модификации структуры многокомпонентных силикатных стекол ионными и электронными пучками .
Выводы .
Заключение .
Литература
- Київ+380960830922