Разработка и исследование метода осаждения оптических покрытий с заданным распределением толщины

ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА I. МЕТОДЫ НАНЕСЕНИЯ И КОНТРОЛЯ ОПТИЧЕСКИХ .
ПОКРЫТИЙ
1.1. Способы формирования слоев осаждением
в вакууме .
1.2. Методы вакуумной асферизации
1.3. Контроль толщины тонких пленок в процессе осаждения
1.4. Контроль формы оптических асферических поверхностей .
1.5. Выводы
ГЛАВА 2. РАСЧЕТ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ,
ПОЛУЧАЕМЫХ ИСПАРЕНИЕМ В. ВАКУУМЕ .
2.1. Постановка задачи
2.2. Распределение толщины слоя на поверхности подложки, совершающей планетарное вращение
2.3. Распределение толщины слоя при использовании испарителя малых размеров . .
2.4. Расчет распределения толщины слоя на подложках со сферической, формой поверхности Обсуждение результатов . . . . . . . . . . . . . . . . . .
2.5. Выбор параметров подложки и геометрии вакуумной установки для создания поверхностей, с.
заданной асферичностью .
2.6. Упрощенный расчет профиля слоя планоицных асферических элементов, изготовленных при оцинарт . . ном вращении подложки
2.7. Выводы
ГЛАВА 3. ОПТИМИЗАЦИЯ ФОРМЫ ПРИЕМНОЙ ПОВЕРХНОСТИ . . .
ПРИ МАССОВОМ ИЗГОТОВЛЕНИИ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ
3.1. Связь между формой приемной поверхности и геометрией испарительной установки при осаждении равнотолщинных слоев
3.2. Определение оптимальной формы приемной поверхности при испарении из точечного и
плоского испарителя.
33. Выводы.
ГЛАВА 4. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ .
ПОКРЫТИЙ ПЕРЕМЕННОЙ ТОЛЩИНЫ .
4.1. Экспериментальная вакуумная установка
4.2. Особенности формирования диэлектрических
покрытий
4.3. Исследование металлодиэлектрических .
асферизующих систем .
4.4. Антиотражательные фильтры с . . .
бесконечной контрастностью .
4.5. Выводы. . . .
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
ЛИТЕРАТУРА