Ви є тут

Фоточувствительность фосфоросиликатных световодов к воздействию излучения эксимерных лазеров

Автор: 
Рыбалтовский Андрей Алексеевич
Тип роботи: 
диссертация кандидата физико-математических наук
Рік: 
2007
Артикул:
3494
179 грн
Додати в кошик

Вміст

ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ.
ГЛАВА 1. Фоточувствительность легированных кварцевых стекол обзор литературы.
1.1. Фосфоросиликатное стекло и световоды на его основе.
1.2. Внутриволоконные решетки показателя преломления
1.3. Фоточувстви гельность световодов.
ГЛАВА 2. Техника эксперимента и экспериментальные установки.
2.1. Характеристики фосфоросиликатных световодов, использованных при исследовании эффекта фотоиндуцированного наведения показателя преломления
2.2. Методики облучения световодов и измерения в них наведенного показателя преломления
2.3. Методы исследования дефектов, наводимых в сетке стекла при воздействии УФ излучения
ГЛАВА 3. Микроскопические дефекты в фосфоросиликатном стекле, наводимые излучением лазера 3 нм
3.1. Спектры поглощения микроскопических дефектов.
3.2. Наведенное поглощение в ИК спектральном диапазоне нм.
3.3. Наведенное поглощение в телекоммуникационном диапазоне длин волн нм.
3.4. Наведенное поглощение в УФ и видимом спектральных диапазонах 00 нм
3.5. Наведенное поглощение в ВУФ спектральном диапазоне 00 нм
3.6. Исследование корреляции дозных зависимостей наведенного поглощения и наведенного показателя преломления.
3.7. Выводы.
ГЛАВА 4. Динамика фотохимических процессов и наведения показателя преломления в фосфоросиликатных световодах при облучении эксимерным лазером на длине волны 3 им
4.1. Теоретическая модель двухэтапного процесса фотоиндуцированных преобразований дефектов в стекле.
4.2. Обсуждение результатов.
4.3. Выводы.
ГЛАВА 5. Наведение показателя преломления в фосфоросиликатных световодах с использованием эксимерных лазеров, генерирующих на различных длинах волн
5.1. Фоточувствительность на длине волны генерации xлазера 8 нм.
5.2. Фоточувствительность на длине волны генерации лазера 3 нм.
5.3. Фоточувствительность на длине волны генерации Иглазера 7 нм
5.4. Высокоэффективные ВКРлазеры на базе фосфоросиликатных световодов.
5.5. Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.П
ЛИТЕРАТУРА