Ви є тут

Технология и физико-химические свойства тонкопленочных материалов на основе системы двойных оксидов ZrO2-GeO2

Автор: 
Борило Лариса Николаевна
Тип роботи: 
дис. канд. техн. наук
Рік: 
2007
Артикул:
26855
179 грн
Додати в кошик

Вміст

Содержание
Введение
1 Физикохимические закономерности получения тонкопленочных материалов на основе двойных оксидов Ъг и веСЬ
1.1 Современные подходы к синтезу веществ и материалов
1.2 Современное состояние проблем по физикохимии тонкопленочных материалов
1.2.1 Место тонкопленочного состояния вещества в химическом знании
1.2.2 Определение и классификация тонких пленок
1.2.3 Отличительные особенности тонкопленочного состояния вещества
1.2.4 Особенности методов получения тонких пленок
1.3 Получение материалов с использованием зольгель процессов
1.4 Физикохимическое изучение системы 2Ю2Се
1.4.1 Диоксид германия и материалы на его основе
1.4.2 Диоксид циркония и материалы на его основе
1.4.3 Двойные оксиды Ъх0е и материалы на их основе
1.5 Использование пленок в различных областях современной технике
1.5.1 Применение тонких пленок
1.5.2 Требования современной технике к пленкам
1.6 Постановка цели и задач исследования
2 Исходные вещества. Методики синтеза и исследования свойств материалов
2.1 Исходные вещества для получения тонкопленочных материалов
2.2 Методика синтеза тонкопленочных материалов
2.2.1 Подготовка подложек
2.2.2 Методика приготовления растворов и получения
пленок
2.3 Исследование изменения вязкости со временем старения пленкообразующих растворов
2.4 Методики исследования состава, структуры и свойств полученных материалов
2.4.1 Рентгенофазовый анализ
2.4.2 Диференциальнотермический анализ
2.4.3 ИКспектроскопия
2.4.4 Изучение оптических свойств пленок
2.4.5 Электрофизические исследования
2.4.6 Адгезия пленок
2.4.7 Растровая электронная микроскопия
2.4.8 Атомносиловая микроскопия
2.4.9 Химическая устойчивость
2.4. Кислотноосновные свойства поверхности
3 Физикохимические процессы, протекающие в пленкообразующих растворах
3.1 Основные физикохимические процессы, обусловливающие получение пленок по зольгель технологии
3.2 Пленкообразующие растворы на основе тетрахлорида германия
3.3 Пленкообразующие растворы на основе оксохлорида циркония
3.4 Свойства пленкообразующих растворов для получения пленок
на основе двойных оксидов 2гО2Се
4 Физикохимические исследования процессов формирования тонких
оксидных пленок системы т20е
4.1 Образование пленки на поверхности твердого тела
4.2 Процессы, протекающие при нанесении пленкообразующего
раствора на подложку
4.3 Физикохимические процессы, протекающие при формировании пленок на основе ТхОъ, ве
4.4 Физикохимические процессы, протекающие при формирования пленок на основе двойных оксидов 2Ю2Се
5. Физикохимические свойства и структура пленок
двойных оксидов гю20е
5.1 Изучение фазового состава полученных пленок
5.2 Изучение структуры пленок двойных оксидов
5.3 Свойства пленок на основе двойных оксидов 2Ю2Се
5.4 Изучение кислотноосновных свойств системы 2Ю20е
5.5 Модифицирование поверхности катализаторов на основе цеолитов марки двойными оксидами гЮ20еО2
6. Технологическая схема получения. Области практического
использования
6.1 Построение математических моделей процессов нанесения оксидных пленок из ПОР
6.2 Технологическая схема получения и модифицирования тонкопленочных и дисперсных материалов
6.3 Критерии управления составом и структурой полученных материалов
6.4 Области практического использования полученных тонкопленочных материалов
Выводы
Список использованных источников