ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
1. ОСОБЕННОСТИ ИСТОЧНИКОВ ПИТАНИЯ РАЗРЯДНОИМПУЛЬСНЫХ УСТАНОВОК.
1.1 Особенности нагрузки ИП разрядноимпульсных установок . .
1.2 Требования к источникам питания . . . . . .
1.3 Существующие схемные решения ИГ1 разрядно импульсных установок .
1.4 Методы исследования . . . . . . . .
Выводы и результаты первой главы . . . . . .
2. ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС ДЛЯ ПИТАНИЯ УСТАНОВОК ИОННОПЛАЗМЕННОЙ ТЕХНОЛОГИИ
2.1. Требования, предъявляемые к ИП установок ионноплазменной технологии, и выбор силовой исполнительной части . . , . .
2.2. Математическая модель цепи ускоряющего напряжения ЭТК ионноплазменной технологии . . . . . . .
2.3 Имитационная модель системы высокочастотный ИП ускоряющего напряжения вакуумная камера . . . . . . .
2.2. ИП электродугового испарителя вакуумной камеры . . .
Выводы и результаты второй главы
3. ЭЛЕКТРОТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ КОМПЛЕКСЫ С КОНДЕНСАТОРНОЙ
СОСТАВЛЯЮЩЕЙ НАГРУЗКИ .
3.1. Электротехнологический комплекс по производству озона . .
3.2 Озоногенерирующая установка с взаимно индуктивным параметрическим модулем .
3.3 Электротехнологические комплексы с емкостным накопителем энергии Выводы и результаты третьей главы . . . . . .
4. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКОГО КОМПЛЕКСА ИОННОПЛАЗМЕННОЙ ТЕХНОЛОГИИ И ОПРЕДЕЛЕНИЕ РАЦИОНАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ ИСТ1НИКА ПИТАНИЯ С ПАРАМЕТРИЧЕСКИМ ТРАНСФОРМАТОРОМ . . . .
4.1 Описание электротехнологи ческого комплекса и условия проведения экспериментов
4.2 Проектирование параметрических трансформаторов . . .
Выводы и результаты четвертой главы . . . . . .
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
БИБЛИОГРАФИЯ
- Київ+380960830922