ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
Глава I. Обзор литературы. СВЧ установки, применяемые для осаждения тонких плнок на больших площадях.
1.1 Введение
1.2 Классическая установка с рабочей камерой резонаторного типа.
1.3 Установки со щелевыми антеннами
1.4 Использование электронного циклотронного резонанса ЭЦР для ввода СВЧ энергии в плазму в установках для роста тонких плнок
1.5 Дисковые реакторы
1.6 Создание плазмы в реакторе при помощи замедляющих систем.
1.7 Использование поверхностных волн для создания плоского слоя плазмы .
1.8 Другие принципы ввода СВЧ энергии в камеру для увеличения площади обрабатываемой поверхности.
Глава И. Осаждение тонких углеродных плнок
2.1 Экспериментальная установка
2.2 Система регистрации спектров плазмы
2.3 Связь эмиссионных характеристик плазмы со структурой плнки
2.3.1 Условия эксперимента.
2.3.2 Эксперименты по росту легированных алмазных плнок.
2.3.3 Эксперименты по росту углеродных нанотруб
2.4 О низкотемпературном осаждении нанографитовых структур.
2.4.1 Низкотемпературн ы й рост углерода ых плнок.
2.4.2 Исследование влияния состава газовой смеси на структуру осаждаемых плнок
2.5 Выводы.
Глава III. Исследование импульсного режима возбуждения плазмы
3.1 Введение.
3.2 Плазмохимия углерод водородного газового СВЧ разряда.
3.3 Исследование влияния параметров импульсов на состав плазмы.
3.4 Влияние параметров импульсов на морфологию плнок
3.5 Влияние импульсного режима на стабильность разряда.
3.6 Оценка газовой температуры.
Глава IV. Экспериментальная многомагнетронная установка
4.1 Экспериментальная многомагнетронная установка для получения СВЧ плазмы.
4.2 Метод оценки равномерности распределения плазмы с помощью ОЭС. Глава V. Исследование однородности разряда в многомагнетронном реакторе.
5.1 Модельные эксперименты в нерезонансном реакторе
5.2 Исследование работы многомагнетронной системы.
5.2.1 Первоначальное исследование поведения разряда.
5.2.2 Диапазон рабочих давлений.
5.2.3 Исследование спектрального состава плазмы.
5.2.4 Эффект суперпозиции рабочих циклов магнетронов
5.2.5 Влияние подложкодержателя на положение разряда
5.2. б Зависимость однородности разряда от основных макропараметров
процесса
5.2.7 Исследование однородности разряда
5.2.8 Однородность плнок, осажднных на многомагнетронной
установке
5.3 Выводы.
Глава VI. Применение алмазных плнок в качестве алмазных мембран для усиления электронного потока.
6.1 Введение.
6.2 Подготовка образцов
6.3 Эксперименты по вторичной эмиссии и обсуждение результатов
6.4 Выводы.
Благодарности.
Литература
- Київ+380960830922