Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне

Оглавление
Введение.
1 Технологические аспекты получения и стабилизации параметров резистивных структур.
1.1 Тонкопленочные технологии в микро и наноэлектронике
1.2 Применение метода термического испарения в вакууме для синтеза многокомпонентных материалов на основе хромоникелевых сплавов
1.3 Модели формирования тонких пленок на основе хромоникелевых сплавов
1.3.1 Капиллярная модель формирования пленок
1.3.2 Атомная модель формирования пленок
1.3.3 Термодинамическая модель кластерного образования
пленок.
1.3.4 Фрактальная модель кластеров при образовании пленок.
1.4 Деградация свойств резистивных структур.
1.4.1 Удельное электрическое сопротивление резистивных структур
1.4.2 Изменение удельного сопротивления многокомпонентных систем на основе хромоникслевых сплавов.
1.5 Дорекристатлизационный и рекристаллизационный отжиг резистивных структур
1.5.1 Изменение структуры и свойств пленок в процессе старения
1.5.2 Изменение структуры и свойств пленок в процессе
отжига.
Выводы.
2 Особенности технологии изготовления и исследования резистивных структур на основе хромоникелевых сплавов.
2.1 Получения пленок на основе хромоникелевых сплавов.
2.2 Методика исследования морфологии поверхности пленок резистивных структур на основе хромоникелевых сплавов.
2.2.1 Методика исследования морфоструктуры поверхности
пленок при помощи сканирующей туннельной микроскопии
2.2.2 Исследований поверхностей пленок с использованием атомиосиловой микроскопии
2.2.3 Исследований пленок при помощи металлографической микроскопии.
2.3 Методика определения плотности кластеров на исследуемой поверхности пленок резистивных структур.
2.4 Методика исследования сканированных изображений при помощи программы i I фирмы
I .
2.4.1 Корректировка цветового выбора масштаба для анализа морфологии поверхности пленок резистивных структур
2.4.2 Исследования профиля поверхности пленок резистивных структур
2.4.3 Гистограмма поверхности пленок резистивных структур.
2.4.4 Трехмерное моделирование поверхностей пленок резистивных структур
2.4.5 Обработка латерального размера исследуемой поверхности пленок резистивных структур.
2.4.6 Распознавание и анализ фигур роста морфоструктуры
пленок полученных с помощью СЗМ.
2.5 Методика исследований электрического сопротивления резистивных структур на основе хромоникелевого сплава.
2.6 Методика отжига резистивных структур на основе
хромоникелевых сплавов
Выводы.
3 Исследование морфологии поверхности резистивных структур на основе многокомпонентных материалов.
3.1 Влияние скорости конденсации на морфологию поверхности пленок резистивных структур.
3.2 Количественная оценка поверхности пленок резистивных структур на низкоразмерном уровне.
3.3 Физикотехнологическая модель образования кластеров
при формировании пленок резистивных структур
3.4 Исследование влияние отжига па морфологию поверхности
пленок резистивных структур.
3.5 Моделирование морфологии поверхности пленок методом
МонтеКарло
4 Исследование деградации свойств резистивных структур на
основе хромоникелевых сплавов.
4.1 Модель изменения сопротивления резистивных структур
4.2 Самоокисление резистивных структур на основе
многокомпонентных материалов.
4.3 Модель постоянной составляющей сопротивления
резистивных структур.
4.4 Влияние условий конденсации пленок многокомпонентных материалов на их состав
4.5 Модель переменной составляющей сопротивления
резистивных структур.
4.6 Исследование влияние отжига на параметры резистивных
структур
Заключение
Список использованной литературы