Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов

ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА I. ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПУЧКОВ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ.
1.1. Особенности формированиялпирокоапертурных электронных пучков в форвакуумной области давлений
1.2. Взаимодействие электронного пучка с изолированной мишенью в форвакуумной области давлений
1.3. Обработка электронным пучком поверхности керамики
1.4. Выводы и постановка задач исследований
ГЛАВА II. ФОРМИРОВАНИЕ ОДНОРОДНОГО
ИМПУЛЬСНОГО ПУЧКА БОЛЬШОГО СЕЧЕНИЯ
2.1. Техника и методика эксперимента
2.2. Радиальное распределение плотности тока
в электронном пучке
2.3. Формирование электронного пучка с использованием многоапертурной системы извлечения.
2.4. Выводы
ГЛАВА III. ЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПОТЕНЦИАЛ
ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ МИШЕНИ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ ИМПУЛЬСНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА.
3.1. Техника и методика эксперимента.
3.2. Результаты экспериментов по измерению потенциала керамики, облучаемой импульсным электронным пучком
3.3. Выводы
ГЛАВА IV. МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТИ КЕРАМИКИ ИМПУЛЬСНЫМ ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ
4.1. Техника эксперимента
4.2. Результаты измерений толщины и свойств модифицированного поверхностного слоя керамики.
4.3. Модификация поверхности керамики
4.4. Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ