ОГЛАВЛЕНИЕ
Введение
ГЛАВА 1. Микроэлектроника и наноэлектроника
1.1 Полупроводниковая электроника.
1.2 Фотолитография
1.3 Дефекты при проведении процесса фотолитографии
1.4 Методы и средства контроля
1.4.1 Разрешение оптического микроскопа.
1.4.2 Способы освещения объекта
1.4.3 Методы наблюдения.
1.5 Вы воды.
ГЛАВА 2. Центрированные светосильные широкоугольные системы
2.1 Определение границ минимального значения апертуры объектива
для выполнения условия обнаружения дефектов.
2. I. 1 Апертура объектива А
2.1.2 Расчет оптической системы.
2.2 1я концепция.
2.2.1 Зеркальнолинзовый объектив.
2. 2. 2 Линзовый объектив А0,,.
2. 2. 2. 1 Система с внутренней апертурной диафрагмой мм
2. 2. 2. 2 Система с внутренней апертурной диафрагмой мм
2.3 2я концепция.
2. 3. 1 Система с вынесенным входным зрачком
2. 3. 2 Система с вынесенной апертурной диафрагмой А0,.
2. 3.3 Пример сравнения разрешения оптической системы с использованием полной или частичной апертуры со смещнным
положением входного зрачка
2. 3.3. 1 Центрированное положение зрачка А0,
2. 3. 3. 2 Использование смещенного зрачка А0,.
2. 3. 3. 3 Использование смещенного зрачка А0,
2. 4 Выводы
ГЛАВА 3. Оптическая система с коррекцией наклона изображения
3.1 Плоская поверхность, разделяющая две среды и установленная наклонно к оптической оси.
3.1.1 Инварианты наклонов меридионального и сагиттального изображения.
3.1.2 Частные случаи применения инвариантов наклона изображения.
3.1.2.1 Предмет АВ параллелен наклонной плоскости, разделяющей среды с показателями преломления пип.
3.1.2.2 Случай малых углов, для которого , 00, соз1
3.1.3 Наклон изображения, вносимый клином в плоскости главного сечения.
3.1.4 Масштаб изображения в оптической системе с наклонными поверхностями.
3.2 Аберрации наклонных плоских поверхностей в сходящемся ходе лучей.
3.2.1 Астигматизм наклонной поверхности
3.2.2 Кома наклонной поверхности.
3.2.3 Кома для наклонных поверхностей тонкой системы
3.2.4 Коррекция комы, вносимой призмой, установленной в сходящемся ходе лучей
3.2.5 Коррекция комы с применением дополнительной призмы
3.2.6 Коррекция комы, вносимой призмой в сходящемся ходе лучей,
децентрировкой линзового компонента
3.3 Выводы к главе 3.
Глава 4 Разработка и исследование объектива с коррекцией наклона
изображения фотоэлектрического микроскопа для исследования
фотолитографических дефектов.
4.1 Основные параметры объектива
4.2 Оптическая схема объектива
4. 3 Конструкция оптической системы с коррекцией наклона изображения
4. 4 Конструкция узла БКНИ
4. 5 Методики и схемы контроля
4. 6 Анализ погрешностей вносимых контрольной схемой
Заключение.
литературы.
Приложение 4.1.
Приложение 4.2.
Приложение 4.3.
Приложение 4.4.
Приложение 4.5.
ВВЕДЕНИЕ
Актуальность
- Київ+380960830922