Содержание
Введение.
Глава 1. Обзор литературы
1.1. Закон Мура.
1.2. Принципы оптической литографии
1.3. Перспективы развития полупроводниковых технологий.
1.4. ЕОТ литография
1.5. Многослойные зеркала для Е1ГУ литографии.
1.6. Проблема загрязнения многослойных зеркал для ЕИУ
1.7. Пост ановка задачи
Глава 2. Методы исследования поверхности оптических элементов и их загрязнений в литографии экстремального УФ
2.1. Спектроскопия рамановского рассеяния
2.2. ИКспсктроскопия гонких пленок аморфного углерода.
2.3. Рентгенофлуоресцентный анализ.
2.4. Сканирующая электронная микроскопия поверхности многослойных зеркал
2.5. Атомносиловая микроскопия поверхности многослойных зеркал
Глава 3. Структура загрязнении поверхности многослойных зеркал
3.1. Загрязнения олова и окисление зеркала.
3.2. Структура тонких пленок углерода осажденных под ЕУ
3.3. Модель процесса осаждения пденки аморфно о углерода на многослойное зеркало под действием ЕЦУ излучения.
3.4. Выводы
Глава 4. Взаимодействие тонких пленок углерода и олова
с плазмой и се послесвечением .
4.1. Введение
4.2. Экспериментальная установка для исследования взаимодействия тонких
пленок углерода и олова с плазмой.
4.3. Метод актинометрии для измерения плотности атомов водорода в плазме.
4.4. Экспериментальная установка для исследования взаимодействия тонких
пленок углерода и олова с послесвечением плазмы.
4.5. Взаимодействие тонких пленок олова с плазмой и ее послесвечением
4.6. Взаимодейст вие тонких пленок углерода с плазмой и се послесвечением
4.7. Выводы
Глава 5. Удаленная плазмеиная очистка многослойных зеркал
5.1. Введение
5.2. Эксперимент.
5.3. Обсуждение результатов
5.4. Моделирование системы удаленной плазменной очистки многослойной оптики.
5.5. Выводы
Глава 6. Ионная и нонстнмулнрованная плазменная очистка многослойных
зеркал.
6.1. Введение
6.2. Эксперимент.
6.3. Результаты
6.4. Ионстимулированная очистка окислов рутения.
6.5. Выводы
Заключение.
Литература
- Київ+380960830922