Ви є тут

Формирование фрактальных тонкопленочных структур при магнетронном нанесении покрытий

Автор: 
Фантиков Валентин Сергеевич
Тип роботи: 
кандидатская
Рік: 
2009
Кількість сторінок: 
181
Артикул:
233298
179 грн
Додати в кошик

Вміст

СОДЕРЖАНИЕ
СОДЕРЖАНИЕ.
ВВЕДЕНИЕ.
ГЛАВА 1. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.
1.1 Понятие о фракталах и фрактальных структурах.
1.2 Методы создания неравновесных условий
1.3 Удельное сопротивление наноразмсных металлических пленок.
1.4 Выводы по главе
ГЛАВА 2. ТЕХНОЛОГИЯ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОК С ФРАКТАЛЬНОЙ СТРУКТУРОЙ
2.1 Взаимодействие КДР с электромагнитными полями, генерируемыми при магнетронном ионном распылении
2.2 Криволинейные дифракционные решетки и их свойства
2.3 Применение КДР для получения фрактальных наноразмерных пленок
2.4 Экспериментальное оборудование.
2.5 Моделирование роста фрактального кластера
ГЛАВА 3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ.
3.1 Исследование полученных пленок с помощью оптической микроскопии, РЭМ и АСМ.
3.2 Исследования влияния КДР на параметры газового плазменного столба в камере установки ионного магнетронного распыления.
3.3 Исследования диаграмм направленности образцов при взаимодействии с электромагнитным излучением миллиметрового диапазона.
3.4 Исследование эффекта репликации и эффекта памяти
3.5 Исследование зависимости сопротивления от температуры наноразмерных пленок.
3.6 Расчет фрактальной размерности структуры получаемых наноразмерных
3.7 Выводы по главе.
ПРИЛОЖЕНИЕ 1. Текст программы.
ПРИЛОЖЕНИЕ 2. Результаты исследования СПМ.
ПРИЛОЖЕНИЕ 3. Результаты исследования ДН
ПРИЛОЖЕНИЕ 4. Результаты исследования удельного сопротивления.
ПРИЛОЖЕНИЕ 5. Результаты расчета фрактальной размерности пленок.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ