Исследоввание процессов плазмохимического осаждения пленок нитрида кремния

СОДЕРЖАНИЕ
Введение
Глава I. Пленки нлазмохимического нитрида кремния
технология получения, свойства и применение
1.1. Получение пленок нитрида кремния методом плазмохимического осаждения из газовой фазы
1.2. Влияние условий осаждения па состав пленок плазмохпмичсского нитрида кремния
1.3. Свойства и применение пленок плазмохимического нитрида кремния
1.4. Постановка задачи и цель диссертационной работы
Глава II. Используемое экспериментальное оборудование
и методика исследований
2.1. Конструкция установки, предназначенной для исследования процесса осаждения пленок нитрида кремния в удаленной плазме с индуктивным методом возбуждения ВЧ разряда пониженного давления
2.1.1. Конструкция реактора, применяемого для регистрации эмиссионных спектров плазмы
2.1.2. Конструкция реакционной камеры, применяемой для осаждения пленок
2.1.3. Газовая система
2.2. Конструкция установки, предназначенной для осаждения пленок нитрида кремния в удаленной плазме с емкостным методом возбуждения ВЧ разряда пониженного давления
2.3. Методика осаждения пленок нитрида кремния
2.4. Методика исследования толщины, состава и свойств пленок
2.4.1. Измерение толщины и показателя преломления пленок методом эллипсомстрип
2.4.2. Измерение толщины и показателя преломления пленок интерференционным методом
2.4.3. Измерение удельного пробивного напряжения, скорости травления пленок и концентрации в пих связанного водорода
2.5. Характеристика метода оптической эмиссионной спектроскопии, применяемого для изучения механизма осаждения пленок
Глава III. Исследование эмиссионных спектров низкотемпературной плазмы с индуктивным способом возбуждения тлеющего ВЧ разряда
3.1. Исследование азотной плазмы ВЧ разряда низкого давления
3.2. Исследование влияния добавок аргона на параметры плазмы в системе 2 Ат
3.3. Исследование оптических эмиссионных спектров плазмы в системе 8Ш4 2 Аг
Глава IV. Исследование процесса осаждения плепок нитрида кремния в установке с удаленной плазмой и индуктивным методом возбуждения ВЧ разряда
4.1. Исследование физикохимических закономерностей роста пленок
4.2. Влияние технологических параметров процесса осаждеппя па состав пленок плазмохимического нитрида кремния
4.3. Влияние условий осаждения на физикохимические свойства пленок ЧхНу
Глава V. Исследование осаждения пленок нитрида кремния в удаленной плазме с емкостным методом возбуждения ВЧ
разряда пониженного давления
5.1. Исследование состава газовой фазы в системе Н4К
методом массспектрометрии
5.1.1. Характерные массспектры газовой среды при отсутствии плазмы
5.1.2. Характерные массспектры газовой среды при активации плазмой
5.2. Физикохимические закономерности осаждения пленок в системе Я 2
5.3. Связанный водород в пленках нитрида кремния полу ченных плазмохимичсским методом
5.4. Влияние разбавления азота аргоном и гелием на осаждение пленок плазмохимического нитрида кремния
Основные результата и выводы
Список литературы