СОДЕРЖАНИЕ
Введение.
Глава 1 Магнетронное нанесение энергосберегающих покрытий
1.1. Тонкопленочные покрытия на архитектурных стеклах и полимерных пленках.
1.1.1. Структура и характеристики низкоэмиссионных энергосберегающих покрытий.
1.1.2. Структура и характеристики электрохромных покрытий.
1.2. Технологические устройства и установки для нанесения тонкопленочных покрытий на архитектурные стекла и полимерные пленки
1.2.1. Магнетронныс распылительные системы
1.2.1.1. Основные типы магнетронных распылительных систем
1.2.1.2.1 есбаласированнье магнетроны
1.2.1.3. Магнетроны с импульсным питанием. Дуальные магнетроны
1.2.2. Факторы, определяющие однородность равномерность толщины покрытий, наносимых магнетронными распылительными системами и методы ее повышения
1.2.2.1. Геометрические факторы, влияющие на равномерность толщины покрытий.
1.2.2.2. Конструкция магнитной системы.
1.2.2.3. Влияние анода.
1.2.2.4. Равномерность подачи газов
1.2.3. Методы повышения коэффициента использования мишени
1.2.3.1. Магнетроны с вращающимся цилиндрическим катодом.
1.2.4. Сильноточные импульсные магнетронныс распылительные системы
1.3. Предварительная ионноплазменная обработка поверхности как метод
увеличения адгезии наносимых покрытий
1.3.1. Источники ионов и плазмы для предварительной обработки поверхности подложек
1.3.2. Механизмы увеличения адгезии покрытий, наносимых на предварительно обработанные подложки.
1.4. Технологические установки для нанесения энергосберегающих покрытий на
архитектурные стекла и полимерные пленки.
Выводы к главе 1.
Глава 2. Экспериментальное оборудование и методики измерений.
2.1. Экспериментальное оборудование
2.1Л. Лабораторная установка для нанесения тонкопленочных покрытий
2Л .2. Протяженная магнетронная распылительная система с цилиндрическим
вращающимся катодом.
2.1.3. Протяженная планарная магнетронная распылительная система
2Л.4. Протяженная магнетронная распылительная система с цилиндрическим
катодом.
2Л .5. Магнетронная распылительная система с электромагнитной катушкой
2.1.6. Ионный источник с анодным слоем
2.1.7. Источник питания магнетронной распылительной системы мощностью
5 кВт.
2.1.8. Источник питания магнетронной распылительной системы мощностью
2.1.9. Источник питания ионного источника с анодным слоем
2.1 Источник питания для возбуждения сильноточного импульсного магнетронного разряда.
2.2. Измерительное и аналитическое оборудование. Методики исследования характеристик разработанных устройств, параметров плазмы, а также свойств получаемых покрытий
2.2.1. Измерительное и аналитическое оборудование.
2.2.2. Методика измерения параметров плазмы.
2.2.3. Методика измерения равномерности тока ионного
пучка.
2.2.4. Методика определения функции распределения ионов по энергиям
2.2.5. Методика измерения плотности ионного тока
2.2.6. Методика измерения потенциала плазмы эмиссионным зондом
2.2.7. Метод измерения адгезии.
2.2.8. Методика исследования прозрачности покрытий в видимом диапазоне спектра.
2.2.9. Методика измерения отражения покрытий в инфракрасном диапазоне спектра.
2.2 Методика исследования электрофизических характеристик покрытий
2.2 Методика исследования стойкости покрытий к атмосферным воздействиям
2.2 Методика исследования структуры покрытий с помощью атомно
силового микроскопа.
Выводы к главе 2
Глава 3. Исследования формирования функциональных покрытий на архитектурном стсклс..
3.1. Физические основы создания низкоэмиссионных покрытий
3.2. Технологическая установка ВНУК для нанесения низкоэмиссионных покрытий на архитектурные стекла.
3.3. Исследование влияния конфигурации магнитного поля в протяженном магнетроне с цилиндрическим катодом на однородность толщины наносимых покрытий.
3.4. Экспериментальное исследование характеристик ионного источника с анодным слоем
3.5. Разработка технологии нанесения низкоэмиссионных покрытий на
архитектурные стекла.
3.6. Спектральные характеристики стекол с низкоэмиссионными покрытиями и
стеклопакетов на их основе.
Выводы к главе 3.
Глава 4. Нанесение низкоэмиссионных покрытий структуры диэлектрикметаллдиэлектрик на полимерные пленки
4.1. Установка для нанесения низкоэмиссионных покрытий на полимерную пленку.
4.2. Исследования равномерности покрытий, наносимых протяженными магнетронними распылительными системами.
4.3. Исследование свойств низкоэмиссионных покрытий структуры лиэлектрикметаллдиэлектрик на полимерной пленке
4.3.1. Низкоэмиссионные покрытия с серебряным функциональным слоем
4.3.2. Низкоэмиссионные покрытая с медным функциональным слоем.
4.4. Исследование параметров плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда и нанесение с его помощью медного функционального слоя
низкоэмиссионных покрытий
Выводы к главе 4.
Глава 5. Нанесение элсктрохромных покрытий на стекло методом магнетронного распыления.
5.1. Принцип работы и структура электрохромных покрытий
5.2. Экспериментальная установка для получения электрохромных покрытий методом реактивного магнетронного распыления
5.3. Метод изготовления твердотельного электрохромного ус гройства ЭХУ.
5.3.1. Получение прозрачных проводящих слоев ЭХУ
5.3.2. Определение оптимальных режимов нанесения электрохромных слоев
5.3.3. Определение режимов нанесения электрохромных слоев i с наилучшей окрашиваемостью.
5.3.4. Нанесение твердого электролита
5.3.5. Изготовление твердотельного ЭХУ.
Выводы к главе 5
Заключение
Список литературы
- Київ+380960830922