ОГЛАВЛЕНИЕ
ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
I. МАТЕМАТИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ ПОЛЕВОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ
ЭМИССИИ
1.1. Поверхность монокристалла металла.
1.1.1. Общие положения
1.1.2. Геометрия и плотность упаковки плоских поверхностей
1.1.3. Моделирование геометрии неплоских поверхностей
1.2. Работа выхода
1.2.1 Определение понятия.
1.2.2 Модель кристаллографической анизотропии работы выхода
1.3. Полевая электро п тая эмиссия.
1.3.1. Теория полевой электронной эмиссии
1.3.2. Сопоставление теоретических и экспериментальных результатов .
1.3.3. Аппроксимация формы эмиттера
1.3.4. Методы расчета потенциала и напряженности поля
1.4. Эмиссионные системы металлдиэлектрик
1.4.1. Формирование слоя диэлектрика.
Ф 1.4.2. Изменения работы выхода монокристаллической поверхности
1.5. Выводы.
И. МОДЕЛИРОВАНИЕ ЭМИССИОННЫХ ХАРАКТЕРИСТИК МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОВЕРХНОСТИ.
2.1. Постановка задачи
2.2. Модель геометрии поверхности.
2.2.1. Алгоритм расчета структуры поверхности
2.2.2. Построение кристаллографических граней вершины эмиттера
2.3. Модель распределения работы выхода по поверхности
2.4 Расчет эмиссионного тока
2.4.1. Распределение электрического поля.
2.4.2. Плотность тока эмиссии и общий эмиссионный ток
2.5. Проверка адекватности модели на основе данных натурного эксперимента
2.5.1. Вольтамиериые характеристики
2.5.2. Эмиссионные изображения.
2.5.3. Площадь эмиссии.
2.6. Выводы.
Ш. МАТЕМАТИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПОЛЕВОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ЭМИССИИ ИЗ СИСТЕМ МЕТАЛЛДИЭЛЕКРИК
3.1 Модель зависимости эмиссионных характеристик системы от толщины слоя диэлектрика
3.1.1. Модель в случае монокристаллической поверхности.
3.1.2. Усреднение параметров модели для поликристаллической поверхности эмиттера.
3.2. Данные натурного моделирования.
3.2.1. Выбор систем металлдиэлектрик для натурной проверки модели.
3.2.2. Особенности вольтамперных характеристик систем металлвода
3.3. Модель предпочтительной ориентации диполей диэлектрического слоя
3.4. Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА
- Київ+380960830922