ОГЛАВЛЕНИЕ
Введение.
Глава 1. Основные методы нанолитографии, перспективы применения
фотонной стимуляции при формировании элементов наноэлектроники
1.1. Основные методы формирования наноструктур.
1.1.1. Оптическая литография
1.1.2. Электроннолучевая литография
1.1.3. Ионнолучевая литография.
1.1.4. Рентгеновская литография.
1.1.5. Литография в экстремальном ультрафиолете.
1.1.6. Нанопечатная литография
1.2. Основные методы формирования наноразмерных структур с
помощью сканирующего зондового микроскопа СЗМ.
1.2.1. Механическая модификация поверхности с помощью атомносилового микроскопа .
1.2.2. Полевое испарение
1.2.3. i литография.
1.2.4. Нанолитография методом локального анодного окисления ЛАО.
1.3. Основные направления создания устройств наноэлектроники с
помощью метода ЛАО
1.3.1. Устройства металлической наноэлектроники.
1.3.2. Одноэлектронный транзистор.
1.3.3. Мезоскопические устройства.
1.4. Формирование каталитических центров методом ЛАО.
1.5. Перспективы применение фотонной стимуляции при формировании структур и устройств наноэлектроники методом ЛАО.
1.5.1. Фотонная стимуляция ЛАО некогерентным излучением.
1.5.2. Фотонная стимуляция ЛАО когерентным излучением.
з
1.6. Выводы и постановка задачи.
Глава 2. Анализ процессов в зазоре атомносилового микроскопа в условиях фотонной стимуляции
2.1. Анализ механизмов анодного окисления металлов
2.2. Термодинамический анализ реакций ЛАО титана
2.3. Оценка распределения температуры в области воздействия зонда при
ЛАО титана
2.4. Модель локального анодного окисления металла.
2.5. Выводы.
Глава 3. Исследование режимов формирования оксидных наноразмерных
структур ОНС методом ЛАО в условиях фотонной стимуляции.
3.1. Исследование режимов напыления тонких пленок металлов
3.2. Исследование режимов проведения нанолитографии методом ЛАО
3.3. Исследование температурной активации метода ЛАО
3.4. Исследование влияния фотонной стимуляции на геометрические
параметры ОНС.
3.5. Исследование влияния длительности импульсов напряжения на
геометрические параметры ОНС
3.6. Исследование влияния материала кантилеверов на геометрические
параметры ОНС.
3.7. Влияние фотонной стимуляции на воспроизводимость ОНС
3.8. Исследование режимов формирования ОНС на поверхности пленки
методом ЛАО
3.9. Выводы
Глава 4. Формирование наноэлектронных структур методом ЛАО в
условиях фотонной стимуляции
4.1. Формирование наноразмерных каналов проводимости методом ЛАО в условиях фотонной стимуляции УФизлучением
4.2. Формирование наноэлектронных структур методом ЛАО
4.3. Разработка топологии и технологического маршрута формирования элементов наноэлектроники на основе наноразмерных каналов проводимости с использованием многофункционального сверхвысоковакуумного нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК9.
4.4. Выводы.
Заключение.
Список используемых источников