Наноразмерная модификация поверхности полупроводников и металлов зондом атомно-силового микроскопа

Содержание
ВВЕДЕНИЕ
1. СКАНИРУЮЩАЯ ЗОНДОВАЯ МИКРОСКОПИЯ МЕТОД ИССЛЕДОВАНИЯ И МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ .
1.1. Высокоразрешающие методы анализа и модификации структуры поверхности .
1.1.1. Методы диагностики и модификации поверхности корпускулярными пучками
1.1.2. Фотоиндуцированная модификация поверхности.
1.1.3. Изменение свойств поверхности направленными пучками заряженных частиц
1.2. Диагностика свойств поверхности твердотельным зондом
1.2.1. Профилометрия и туннельная микроскопия.
1.2.2. Сканирующая микроскопия регистрации атомных сил
1.3. Преобразование структуры поверхности твердотельным зондом
1.3.1. Изменение свойств поверхности полупроводников и металлов посредством вызванного зондом локального анодного окисления
1.3.2. Общая модель окисления Вагнера и процессы естественного окисления
1.3.3. Модели Кабреры и Мотта.
Выводы и постановка задач
2. АТОМНОСИЛОВАЯ МИКРОСКОПИЯ
2.1. Основные принципы метода атомносиловой микроскопии.
2.2. Режимы взаимодействия иглы атомносилового микроскопа с исследуемой поверхностью
2.2.1. Вибрационные и модуляционные методики
2.2.2. Система позиционирования зонда и система детектирования сигнала
2.2.3. Кантилевер зонд атомносилового микроскопа.
2.3. Методы математического анализа изображений поверхности,
полученных атомносиловой микроскопией.
2.3.1. Трзффект.
Результаты и выводы
3. ЛОКАЛЬНОЕ АНОДНОЕ ОКИСЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ ЗОНДОМ АТОМНОСИЛОВОГО МИКРОСКОПА.
3.1. Локальное анодное окисление поверхности Ь, СаАв
3.2. Особенности локального анодного окисления зондом СЗМ
3.3 Особенности зондового окисления тонких пленок титана и тонких
пленок кремния в системе кремнийнаизоляторе
Выводы.
4. ОПТИМИЗАЦИЯ МОДИФИКАЦИИ ПОВЕРХНОСТИ ЗОНДОМ АТОМНОСИЛОВОГО МИКРОСКОПА.
4.1. Физические аспекты взаимодействия иглы с поверхностью в
присутствии воды.
4.2. Электрическое поле в системе зондповерхность.
4.3. Латеральные размеры
4.4. Влияние механического напряжения.
4.5. Механическая модификация поверхности зондом атомносилового
микроскопа1.
4.6. Модификация поверхности ваАз и Б.
4.7. Локальное анодное окисление поверхности при повышенном анодном
потенциале
4.8. Комплексная модификация поверхности полупроводников
5. ОСОБЕННОСТИ ЗОНДОВОЙ НАНО ЛИТОГРАФИИ.
5.1. Режимы зондовой нанолитографии.
Режим ручного управления зондом во время окисления.
5.2. Артефакты и погрешности изображений атомносиловой микроскопии
5.2.1. Механические и электронные шумы
5.3. Влияние шероховатости
5.4. Наноразмерные структуры на поверхности гетероструктур .,.
5.5. О совершенстве наноструктур, полученных локальным анодным окислением иглой
Выводы
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ.
Список использованной литературы