Содержание
ВВЕДЕНИЕ.
Глава 1. ВЗАИМОДЕЙС ТВИЕ ЛАЗЕРНОГО И ЭЛЕКТРОННОГО ОБЛУЧЕНИЙ С ТВЕРДЫМИ ТЕЛАМИ ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.
1.1 Лазерная обработка при изготовлении компонентов электронной техники
1.1.1. Тепловой механизм лазерного воздействия.
1.1.2. Селективные негермические воздействия.
1.1.3. Влияние лазерного излучения на рост и структуру кристаллов и окислительновосстановительные процессы
1.2. Свойства оксидов переходных металлов.
1.2.1. Особенности состава оксидов переходных металлов.
1.2.2. Анодное окисление способ получения тонких пленок оксидов переходных металлов
1.2.3. Фазовый переход металлизолятор.
1.2.4. Эффект переключения.
1.2.4.1. Переключение в Т
1.2.4.2. Модели переключения.
1.3. Модификация свойств оксидов переходных металлов под действием лазерного и электронного излучений
Выводы из литературного обзора
Глава 2. МЕТОДИКИ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ
2.1. Приготовление образцов.
2.2. Аппаратура для фотонной и корпускулярной модификации.
2.3. Лазерный комплекс
2.4. Аппаратура для фотостимулированиого анодного окисления.
2.5. Измерительные методики.
2.5.1. Спекфофотометрический метод.
2.5.2. Электрофизические измерения.
Глава 3. СОСТАВ, СТРУКТУРА И ФИЗИКОХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ИСХОДНЫХ ПЛЕНОК ОКСИДОВ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ
3.1. Анодное окисление ванадия
3.2. Оптические свойства тонких пленок анодных оксидов ванадия
3.3.Исследование структуры и стехиометрии анодного оксида ванадия.
Глава 4. МОДИФИКЛ1 ИЯ СВОЙСТВ ОКСИДОВ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ФОТОННОГО И ЭЛЕКТРОННОГО ОБЛУЧЕНИЙ.
4.1. Лазерная модификация свойств оксидов переходных металлов
4.1.1. Модификация от ических свойств
4.1.2. Модификация химических свойств
4.1.3. Модификация электрических свойств.
4.2. Электроннолучевая модификация свойств оксидов переходных металлов
Глава 5. ФОТОСТИ МУ ЛИРОВАННОЕ АНОДНОЕ ОКИСЛЕНИЕ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ.
Глава 6. МЕХАНИЗМ ТРАНСФОРМАЦИИ СВОЙСТВ ОКСИДОВ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ IЮД ДЕЙСТВИЕМ ФОТО 1НОГО И ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОГО ОБЛУЧЕНИЙ.
Глава 7. ПРАКТИЧЕСКОЕ РИМЕПЕНИЕ ПЛЕНОЧНЫХ СТРУКТУР НА ОСНОВЕ ОКСИДОВ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ
7.1. Среды для записи, хранения и отображения оптической информации на основе пленочных структур с оксидами переходных металлов
7.2. Резист для ультрафиолетовой и электроннолучевой субмикронной
литографии.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ И ВЫВОДЫ
ЛИТЕРАТУРА
- Київ+380960830922