СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ.
1. АКТИВАЦИЯ ТВЕРДОФАЗНЫХ ПРОЦЕССОВ ИЗЛУЧЕНИЕМ ГАЗОРАЗРЯДНЫХ ЛАМП.
1.1. Применение импульсной фотонной обработки.
1.1.1. Фотонная обработка для микроэлектроники
1.1.2. Основные преимущества метода
1.1.3.ерспективные возможности применения метода.
1.2. Основные проблемы, связанные с его использованием.
1.3. Механизмы активации процессов фотонной обработкой
1.4. Заключение
2. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА
2.1. Материалы и способы нанесения исходных пленок.
2.1.1. Пленки Аи, Р1, Рс1
2.1.2. Пленки И
2.2. Активация процессов рекристаллизации и оксидирования
2.2.1. Рекристаллизация пленок Аи, Р1 и Рс1 фотонной обработкой и быстрым термическим отжигом.
2.2.2. Оксидирование пленок П, активируемое термическим отжигом
2.2.3. Оксидирование пленок Тц активируемое фотонной обработкой.
2.3. Методы исследования фазового, элементного состава, субструктуры и морфологии поверхности.
2.4. Методы подготовки образцов для исследований.
2.5 Исследование оптических свойств тонких пленок оксида титана
3. РЕКРИСТАЛЛИЗАЦИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК , и , АКТИВИРУЕМАЯ ИМПУЛЬСНОЙ ФОТОННОЙ ОБРАБОТКОЙ
3.1. Субструктура пленок
3.2. Оценка эффекта фотонной активации рекристаллизации.
3.3. Выводы.
4. ОКСИДИРОВАНИЕ ПЛЕНОК i.
4.1. Ориентация и субструктура хемоэпитаксиальных пленок рутила.
4.1.1. Ориентация и субструктура исходных эпитаксиальных пленок i
4.1.2. Фазовый состав и субструктура пленок
4.2. Эффект фотонной активации в структуре и субструктуре пленок.
4.2.1. Поликристаллические пленки
4.2.2. Эпитаксиальные пленки.
4.3. Оптические свойства пленок ТЮ2.
4.4. Выводы.
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ.
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
- Київ+380960830922