ВВЕДЕНИЕ.
1. ОСНОВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ РАЗВИТИЯ ОПТИЧЕСКИХ МЕТОДОВ КОНТРОЛЯ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ КОГЕРЕНТНЫХ ИСТОЧНИКОВ ДЛЯ ВУФ И ИК ОБЛАСТИ СПЕКТРА.
1.1. Спектральное проявление дискретной и континуальной неупорядоченности кристаллов
1.2. Методы измерения потерь излучения в
оптических элементах
1.3. Влияние кислородосодержащих примесей на спектральную прозрачность монокристаллов фторидов
1.4. Технологические проблемы получения внутрирезонаторных элементов на основе
кристаллов кварца.
2. МЕТОДЫ ИЗМЕРЕНИЯ ПОЛЯРИЗАЦИОННЫХ ХАРАКТЕРИСТИК АНИЗОТРОПНЫХ СРЕД И СПОСОБЫ АНАЛИЗА НЕОДНОРОДНЫХ ОТРАЖАЮЩИХ СИСТЕМ.
2.1. Теоретические и методические основы метода
эллипсометрии.
2. 2. Методика определения оптических характеристик
неоднородных отражающих систем
2.2.1. Методики расчета характеристик поверхностных слоев
2.2.2. Методика определения оптического профиля для неоднородного анизотропного поверхностного слоя
2.2.3. Изменение оптических характеристик поверхностного слоя при полировании
и ионнойплазменной обработке кварца.
2.3. Методы определения оптических постоянных
неоднородных сред.7С
2.3.1. Метод иммерсионной эллипсометрии
2.3.2 Методы определения ориентации оптической оси и оптических постоянных одноосных поглощающих кристаллов
3. АППАРАТУРА ДЛЯ ПОЛЯРИЗАЦИОННЫХ И СПЕКТРАЛЬНЫХ ИЗМЕРЕНИЙ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ.
3.1. Методы математической обработки результатов измерений поляризационнооптических характеристик оптических анизотропных элементов.
3.2. Аппаратурное обеспечение эллипсометрического метода.
3.3. Анализ методик измерения нормированной матрицы отражения анизотропной отражающей системы
3.4. Выбор и анализ схемы эллипсометра.
3. 5. Автоматизированный универсальный фотометрический
эллипсометр
3.5.1. Принцип работы эллипсометра.
3.5.2. Случайные погрешности в зллипсометре
3.5. 3. Устройство эллипсометра
3.6. Особенности построения эллипсометра
3.7. Программное обеспечение автоматического эллипсометра
4. ОСОБЕННОСТИ МЕТРОЛОГИЧЕСКОЙ АТТЕСТАЦИИ СПЕКТРОМЕТРИЧЕСКОЙ И ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОЙ АППАРАТУРЫ ДЛЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ФТОРИДОВ
4.1. Интерференционные методы метрологической аттестации эллипсометров.
4.2. Аттестация эллипсометра по образцовым средствам измерения.
4.3. Метрологическая аттестация аппаратуры и калиброванных ослабителей излучения для спектроскопических измерений
5. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЗРАЧНОСТИ И АДСОРБЦИОННОЙ СПОСОБНОСТИ ПОВЕРХНОСТИ КРИСТАЛЛОВ МЕТОДАМИ ЭЛЛИПСОМЕТРИИ И ВУФСПЕКТРОСКОПИИ.
5.1. Особенности получения монокристаллов фторидов ЩЗМ
в лабораторных условиях.
5. 2. Основные закономерности изменения состояния
поверхности оптических элементов при механической
и термической обработке
5. 3. Основные закономерности изменения прозрачности оптических элементов в ВУФ области спектра в процессе химической обработки и хранения монокристаллов фтористого магния.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА
- Київ+380960830922