Ви є тут

Поляризационно-оптические методы диагностики физико-химического состояния поверхности оптических элементов из силикатных стекол

Автор: 
Землянский Владимир Сергеевич
Тип роботи: 
кандидатская
Рік: 
2009
Кількість сторінок: 
199
Артикул:
242918
179 грн
Додати в кошик

Вміст

Введение .
ГЛАВА I. МЕТОДЫ ДИАГНОСТИКИ ФИЗИКОХИМИЧЕСКОГО СОСТОЯНИЯ И ФИЗИКОМАТЕМАТИЧЕСКОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ НЕОДНОРОДНОЙ СТРУКТУРЫ СИЛИКАТНЫХ СИСТЕМ .
1.1 Методы физикоматематического и экспериментального анализа структуры, химического состава и свойств многокомпонентных стеклообразных систем .
1.2 Эффективная диэлектрическая проницаемость и толщина
неоднородного поверхностного слоя .
1.3 Эллипсометрические методы диагностики состояния поверхности
силикатных систем .
1.4 Методы метрологической аттестации эллипсометрической
аппаратуры для поляризационнооптических измерений .
Выводы .
ГЛАВА И. ПОЛЯРИЗАЦИОННООПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА НЕОДНОРОДНЫХ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ СИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ .
2.1 Методы определения оптических характеристик неоднородных
слоев и многослойных отражающих систем .
2.2. Обобщенное уравнение эллипсометрии в приближении теории ДрудеБорна для неоднородных анизотропных слоев .
2.3 Анализ области применимости точных и приближенных теорий отражения поляризованного света от неоднородных слоев .
2.4 Основные закономерности изменения состояния поляризации светового пучка отраженного от неоднородного слоя .
2.5 Поляризационнооптические свойства шероховатой поверхности
неоднородной подложки .
Выводы .
ГЛАВА III. МЕТОДЫ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ
ОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРНОЙ ТЕХНИКИ .
3.1 Влияние неоднородности физикохимической структуры
кварцевого стекла на потери излучения в УФ области спектра .
3.2 Методы эллипсометрического анализа неоднородных поверхностных слоев элементов лазерной техники .
3.3 Определение глубины нарушенного слоя на полированной поверхности оптических элементов .
3.4 Определение потерь излучения в оптических элементах методами эллипсометрии и спектрофотометрии . .
Выводы .
ГЛАВА IV. ИССЛЕДОВАНИЕ КИНЕТИКИ И МЕХАНИЗМОВ ФОРМИРОВАНИЯ НЕОДНОРОДНОЙ СТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ СИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ .
4.1 Кинетика и механизм формирования волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих стеклах .
4.2 Кинетика и механизм процессов стационарного и нестационарного выщелачивания поверхностных слоев силикатных стекол .
4.3 Эллипсометрия оптических соединений элементов оптотехники .
Выводы .
Заключение .
Литература