Содержание
Введение.
Глава 1. Обзор литературы
1.1. Оптическая литография
1.2. ЭУФ литографии
1.3. Источники ЭУФ излучения.
1.4. Проблема спектральной в ЭУФ ли1 отрафии.
1.5. Обзор методов спектральной фильтрации ЭУФ излучения.
Глава 2. Фильтры ЭУФ излучения на основе металлических сеточных структур
2.1. Введение
2.2. Расчет пропускания ИК излучения.
2.3. Расчеты пропускания ЭУФ излучения.
2.4. Экспериментальные результаты
2.5. Выводы
Глава 3. ЭУФ зеркала, комбинированные с антиотражающими покрытиями для ИК излучения
3.1. Введение
3.2. Расчеты отражения ЭУФ излучения.
3.3. Расчеты офажения ИК излучения.
3.4. Экспериментальные результаты
3.5. Выводы
Глава 4. Дифракционные фильтры ЭУФ излучения
4.1. Введение
4.2. Теоретическое описание спектральных характеристик фильтра.
4.3. Результаты теоретических расчетов.
4.4. Экспериментальные результаты
4.5. Выводы
Заключение
Список литературы
- Київ+380960830922