Содержание
Список сокращений и условных обозначений
Введение.
. Обзор литерату ры
1.1. Способы получения атомарного водорода
и его внедрение в полупроводниковые мателы.
1.2. Методы контроля атомарного водорода.
1.3. Взаимодействие атомарного водорода
с поверхностью полупроводников.
1.4. Диффузия атомарного водорода в полупроводники.
1.5. Влияние водородной обработки
на электрофизические свойства полупроводников.
1.6. Влияние водородной обработки
на характеристики полупроводниковых приборов
1.7. Стабильность эффектов
1.8. Конфигурационнозарядовое состояние водорода
в полупроводниках
1.9. Постановка задачи.
2. Методики экспериментов по обработке образцов
в потоке атомарного водорода.
2.1 Экспериментальнотехнологическая установка.
2.2. Технологический маршрут приготовления образцов и условия их обработки в потоке атомарного водорода
2.3. Численное моделирование.
3. Влияние обработки атомарным водородом на свойства
поверхности и приповерхностной области эпитаксиального п7
3.1. Влияние диэлектрической плнки 5 на процессы, происходящие
на границе раздела БЮпСаАз и в приповерхностной области пСаАв
во время обработки в потоке атомарного водорода
3.2. Изменение структуры поверхности пСаАя
под воздействием атомарного водорода.
3.3. Аморфизация поверхности и приповерхностной области псАб
3.4. Изменение химической активности материала пСаЛя
под воздействием атомарного водорода.
4. Влияние обработки атомарным водородом
на электрофизические свойства
4.1. Пассивация мелкой донорной примеси
4.2. Стабильность эффекта пассивации мелкой донорной примеси.
4.3. Пассивация электрически активных центров в пваАх, дающих
глубокие уровни в запрещнной зоне.
5. Влияние обработки атомарным водородом
на приборные статические электрические арактеристики
Аипп СаА5 структур с барьером Шоттки
5.1. Статические электрические характеристики
Аипп ваАь структур с барьером Шоттки
5.2. Причины, приводящие к изменеию статических приборных характеристик под воздействием атомарного водорода
Заключение.
Список литературы
- Київ+380960830922