Разработка технологии КМОП ИС на структурах КНД

СОДЕРЖАНИЕ.
СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. Структуры КНД в микроэлектронике
1.1 Основные типы КНД структур.
1.1.1. Структуры кремний на сапфире КНС.
1.1.2. Структуры, сформированные имплантацией атомов кислорода или азота IX
1.1.3. Структуры, сформированные рекристаллизацией аморфных или поликристаллических слоев кремния
1.1.4.Структуры, полученные методом молекулярнолучевой эпитаксии кремния на пористом кремнии КНПК.
1.1.5. Структуры, полученные методом последовательною наращивания диэлектрических слоев фторида кальция и кремния на поверхность
кремниевой подложки КНФ.
1.2.Особенности технологии КМОП ИС на структурах КНД
ГЛАВА 2. Технология КМОП ИС на структурах КНС
2.1. Электрофизические параметры КНС структур
2.1.1. Распределение легирующей примеси в кремниевом слое.
2.1.2. Структурные дефекты кремниевого слоя.
2.1.3. Влияние границы раздела на параметры кремниевого слоя
2.2. Проблемы технологии КМОП ИС на структурах КИС.
2.2.1. Фотолитография на структурах КНС.
2.2.2. Формирование кремниевых островков.
2.2.3. Ионное легирование кармана и границы раздела кремнийсапфир
2.2.4. Создание затворного окисла МОП транзисторов на КНС
2.3. Параметры КМОП ИС структурах КНС
2.4. Выводы к главе 2
ГЛАВА 3. Технология КМОП ИС на структурах КНПК.
3.1. Электрофизические параметры КНПК структур.
3.1.1 Дефекты КНПК структур.
3.1.2. Особенности получения пористого слоя.
3.1.3. Особенности получения кремниевого слоя.
3.1.4. Особенности окисления пористого кремния
3.1.5. Граница раздела кремний окисел
3.2. Проблемы технологии КМОП ИС на структурах КНПК
3.2.1. Особенности создания кремниевого островка
3.2.2. Особенности получения окисла из пористого слоя.
3.2.3. Особенности разделения структур КНПК на кристаллы
3.3. Параметры КМО1 ИС на структурах КНПК.
3.5. Выводы к главе 3
ГЛАВА 4. Технология КМОП ИС на структурах КНФ
4.1. Электрофизические параметры КНФ структур
4.1.1 Особенности получения слоев фторида кальция
4.1.2. Особенности эпитаксии слоев кремния на фториде кальция.
4.1.3. Дефекты кремниевого слоя структур КНФ.
4.1.4. Граница раздела кремний фторид кальция
4.2. Проблемы технологии КМОП ИС на структурах КНФ.
4.2.1. Особенности травления кремниевого слоя
4.2.2. Особенности химической обработки структур КНФ.
4.2.3. Особенности термообработки структур КНФ.
4.3. Параметры КМОП ИС на структурах КНФ.
4.4. Выводы к главе 4
ГЛАВА 5. Техникоэкономические показатели изготовления и использования КНД структур
5.1. Сравнение технических и технологических параметров КНД структур
5.2. Сравнение экономических параметров КНД структур.
5.3. Выводы к главе 5
ВЫВОДЫ ПО ДИССЕРТАЦИИ.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ