Испарение капель катодного материала в плазме вакуумно-дугового отражательного разряда

ОГЛАВЛЕНИЕ
ГЛАВА I. КАТОД ВАКУУМНОЙ ДУГИ КАК ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ И МАКРОЧАСТИЦ
обзор литературы.
1.1. Основные свойства катодного пятна вакуумной дуги
1.2. Современные представления о процессах в катодном пятне вакуумной дуги.
1.2.1. Плотность тока в катодном пятне вакуумной дуги.
1.2.2. Эрозионноэмиссионная модель процессов в катодном пятне
1.2.3. Нестационарная гидродинамическая модель процессов в катодном пятне.
1.3. Нагрев капель в потоке катодной плазмы
1.4. Обнаружение и исследование капельных пятен
1.5. Выводы и постановка задачи исследований.
ГЛАВА И. СРАВНИТЕЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ОПТИЧЕСКИХ
ХАРАКТЕРИСТИК ИЗЛУЧЕНИЯ КАПЕЛЬНОГО И КАТОДНОГО ПЯТЕН
2.1. Экспериментальное оборудование и методика исследований
спектральных характеристик капельных пятен.
2.2. Сравнительный анализ спектральных характеристик капельного и
катодного пятен
2.3. Свечение капель после обрыва тока дуги
2.4. Выводы к Главе II.
ГЛАВА III. ФОРМИРОВАНИЕ И ХАРАКТЕРИСТИКИ ПЛАЗМЕННОГО
СТОЛБА ДЛЯ ИЗУЧЕНИЯ ИСПАРЕНИЯ КАПЕЛЬ В ПОЛЕТЕ
3.1. Описание экспериментального стенда.
3.2. Исследование характеристик разряда
3.3. Об основных процессах в плазменном столбе вакуумнодугового
отражательного разряда.
3.4. Характеристики ионного потока на выходе из ячейки Пеннинга
3.5. Выводы к Главе III
ГЛАВА IV. СНИЖЕНИЕ ПОТОКА КАПЕЛЬ КАТОДНОГО МАТЕРИАЛА В ПРОЦЕССЕ ИХ ПРОЛЕТА ЧЕРЕЗ СТОЛБ ПЛАЗМЫ ДУГОВОГО
ОТРАЖАТЕЛЬНОГО РАЗРЯДА
4.1. Методика измерения и анализа капельной фракции эрозии катода
4.2. Экспериментальные результаты.
4.3. Сопоставление результатов экспериментов с теоретической моделью
капельного пятна
4.4. Выводы к Главе IV
ГЛАВА V. СИЛЬНОТОЧНЫЙ ИМПУЛЬСНЫЙ ВАКУ УМНОДУГОВОЙ
ИСПАРИТЕЛЬ.
5.1. Испарение капель в полете в существующих вакуумнодуговых
источниках плазмы.
5.1.1. Использование фокусировки плазменного потока в вакуумнодуговых источниках постоянного тока
5.1.2. Сильноточные импульсные источники плазмы
5.2. Сильноточный испаритель на основе огражательного разряда.
5.2.1. Описание сильноточного испарителя.
5.2.2. Электрические характеристики источника.
5.2.3. Исследование динамики двиэсения катодных пятен
5.2.4. Ионноэмиссионные характеристики плазмы
5.3. Использование созданного сильноточного испарителя в технологии формирования поверхностных сплавов.
5.3.1. Описание макета технологической установки
5.3.2. Формирование поверхностного сплава i
5.3.3. Формирование поверхностного сп.чава СиА1 .
5.3.4. Формирование поверхностного сплава i ,.
5.4. Выводы к Главе V
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА