Содержание
Список сокращений и обозначений
Введение
ГЛАВА 1. Вычислительное моделирование плазмохимических реакторов травления
1. Плазмохимические реакторы травления
1.1. Плазмохимические реакторы в технологии производства микроэлектронных устройств
1.2. Характеристики плазмохимического травления .
1.3. Требования к качеству обработки полупроводниковых подложек
2. Математические модели плазмохимических реакторов .
2.1. ВЧразряд и плазменная кинетика в реакторе . .
2.2. Модели химической кинетики.
2.3. Моделирование гидродинамики и тепломассообмена 3. Проблемы численного моделирования и оптимизации процесса травления в ПХР
ГЛАВА 2. Развитие физикоматематической модели
плазмохимического реактора
1. Гидродинамика
2. Теплообмен.
3. Структура ВЧразряда.
4. Кинетика химических реакций в ВЧразряде в С. и
5. Массообмен.
6. Метод решения
ГЛАВА 3. Численная оптимизация плазмохимических реакторов травления
1. Оптимизация скорости и однородности травления в изотермическом планарном плазмохимическом реакторе . .
1.1. Постановка задачи и основные уравнения.
1.2. Результаты численного моделирования
Выводы.
2. Эффекты неизотермичности в плазмохимическом реакторе травления .
2.1. Постановка задачи и основные уравнения.
2.2. Результаты численного моделирования
3. Численный расчет плазмохимического реактора пониженного давления
3.1. Постановка задачи и основные уравнения.
3.2. Результаты численного моделирования
4. Сравнение моделей кинетики для тетрафторметана . . .
4.1. Постановка задачи и основные уравнения.
4.2. Результаты численного моделирования
5. Особенности интенсификации травления кремния в плазме СРОъ.
5.1. Постановка задачи и основные уравнения.
5.2. Результаты численного моделирования
Заключение
Литература
- Київ+380960830922