Оглавление
Введение.
Глава 1 Проекционная оптическая литография и формирование изображения обзор литературы.
1.1 Проекционная оптическая литография
1.2 Маски для оптической литографии.
1.3 Основные проблемы фотолитографии
1.4 Оптическая литография без маски фотолитографические системы с пространственным модулятором света.
1.5 Литография без маски на дискретном зеркальном устройстве фирмы
x I
1.6 Литография на периодической структуре из зонных пластин.
1.7 Технология производства электрически управляемых микрозеркал
1.8 Численное моделирование и анализ прямая и обратная задачи
оптической литографии
1.9 Основные характеристики оптической проекционной литографии
1. Общая схема оптической проекционной литографии
ВЫВОДЫ.
Глава 2 Формирование изображения при частичнокогерентном
освещении аналитическое исследование
2.1 Постановка задачи о формировании изображения
2.2 Формирование изображения при частичнокогерентном освещении .
2.3 Спектр функции пропускания маски
2.4 Когсрентшлй импульсный отклик оптической системы
2.5 Пример численного расчета изображения маски.
ВЫВОДЫ.
Глава 3 Сравнение характеристик изображений в проекционной фотолитографии.
3.1 Алгоритм численного моделирования формирования изображения
3.2 Определение критических размеров элементов изображения
3.3 Оптический контраст изображения для бинарных и фазовых масок
ВЫВОДЫ.
Глава 4 Фазоворастровые маски способ построения и расчет изображений.
4.1 Введение
4.2 Построение фазоворастровой маски.
4.3 Результаты численного моделирования
Глава 5 Формирование изображения в литографии без масок.
5.1 Постановка задачи о формировании изображения в оптической
литографии с микрозеркалами
5.2 Аналитическое решение граничной задачи.
5.3 Результаты численного моделирования
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
ЛИТЕРАТУРА