СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ.
ГЛАВА 1. Низкоэнергетические ионные источники в технологии
микрофотоэлектроники
ГЛАВА 2. Принципы проектирования ионных источников с холодным
катодом для технологии микрофотоэлектроники.
2.1. Компьютерное моделирование ионнооптической системы
2.2. Система газонапуска
2.3. Методы и устройства для определения параметров ионных пучков
2.3.1. Матричный датчик плотности ионного тока
2.3.2. Система контроля энергетического спектра ионных пучков.
ГЛАВА 3. Комплексная установка вакуумного напыления УВН.
3.1. Технические решения и конструктивные особенности
установки напыления
3.1.1. Магнетронная система напыления.
3.1.2. Резистивный испаритель.
3.1.3. Система ионнолучевого травления.
3.1.4. Внутрикамсрная технологическая оснастка
3.1.5. Система газонапуска
3.1.6. Автоматизированная система управления
технологическим процессом УВН.
ГЛАВА 4. Установка ионнолучевого травления УИЛТ
4.1. Описание конструкции установки ионного травления.
4.1.1. Внутрикамсрная оснастка и подложкодержатель
4.1.2. Система газонапуска
4.1.3. Автоматизированная система управления
технологическим процессом УИЛТ.
4.2. Отработка технологических процессов.
ГЛАВА 5. Установка электроннолучевой сварки герметизации
вакуумных корпусов МФПУ УЭЛС
5.1. Проектирование электроннооптической системы ЭЛУ.
5.2. Выбор материалов внутрикамерной оснастки.
5.3. Расчет защиты персонала, обслуживающего электроннолучевую установку от воздействия рентгеновского излучения.
5.4. Описание конструкции установки электроннолучевой сварки.
5.4.1. Электроннооптическая колонна
5.4.2. Блок электрического питания ЭЛУ
5.4.3. Автоматизированная система управления
ГЛАВА 6. Автоматизированный контроль технологических параметров
вакуумного оборудования, как обеспечение
непрерывного контроля качества.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
ЛИТЕРАТУРА
- Київ+380960830922