Процессы роста на чистой и модифицированной бором поверхности кремния

Содержание
Введение
1 Кристаллизация аморфного кремния на i
1.1 Введение
1.2 Влияние температуры отжига на процесс кристаллизации
1.2.1 Изотермический отжиг, Тотж 0С
1.2.2 Изотермический отжиг Тогж 00С
1.2.3 Изотермический отжиг Т 0С
1.3 Двухступенчатый отжиг
1.4 Особенности кристаллизации тонких аморфных пленок
1.5 Влияние температуры осаждения на структуру напыленных пленок
1.5.1 Переходный слой
1.5.2 Структура разупорядоченного слоя
1.6 Влияние температуры осаждения на стуктуру аморфного кремния
1.7 Влияние структуры аморфного кремния на процесс кристаллизации
1.8 Выводы
2 Твердофазная эпитаксия кремния
2.1 Введение
2.2 Влияние ориентации подложки на процесс ТФЭ
2.2.1 Ориентационная зависимость скорости эпитаксиальной кристаллизации
2.2.2 Влияние ориентации подложки на качество эпитаксиальных слоев
2.3 Кинетика ТФЭ слоев кремния, легированных сурьмой
2.4 Выращивание сильно легированных слоев кремния методом ТФЭ
2.4.1 Эффективность легирования при применении метода ТФЭ
2.4.2 Получение сверхвысоких уровней легирования
2.5 Выводы
3 Взаимодействие В2О3 с поверхностью 81
3.1 Введение
3.2 Изменение структуры поверхности 81 от времени осаждения В2О3
3.3 Температурная зависимость адсорбции бора на поверхности 81 7х7
3.4 Влияние потока Вз на процесс адсорбции бора
3.5 Релаксация поверхности 81 при прерывании потока В2О3
3.6 Соосаждение В2О3 и 8
3.7 Выводы
4 Особенности формирования поверхностной фазы Зх3В на 81
4.1 Введение
4.2 Формирование 81чЗх3В на поверхности сильно легированного бором кремния
4.2.1 Изотермический высокотемпературный отжиг
4.2.2 Сегрегация бора на поверхности кремния
4.2.2.1 Изотермический отжиг
4.2.2.2 Изохронный отжиг
4.3 Формирование 81Зхл3В на поверхности кремния при разложении В2О3
4.3.1 Экспериментальные кривые качания интенсивности зеркального рефлекса каргины ЙБЭ
4.3.2 Сравнение расчетных кривых качания с экспериментальными кривыми качания
4.3 Влияние осаждения В2О3 на морфологию поверхности 8 1
4.4 Выводы
5 Эпитаксия кремния на поверхности 81ЗхЗВ
5.1 Введение
5.2 Эпитаксиальный рост 8 на 8 1 Зх3В в режиме МЛЭ
5.2.1 Сегрегация бора в процессе осаждения Б на 81хЗх3В
5.2.2 Влияние начального покрытия бора на механизм роста
5.2.3 Влияние начального покрытия бора на качество эпитаксиальных слоев
5.3 Эпитаксиальный рост 8 на 81Зхх3В в режиме ТФЭ
5.4 Выводы
6 Ннтридизацин модифицированной бором поверхности кремния
6.1 Введение
6.2 Одновременная адсорбция кислорода и азота из атмосферы воздуха
6.2.1 Зависимость состава и структуры поверхности от режима экспозиции
6.2.2 Зависимость состава поверхности от степени модификации
6.2.3 Зависимость состава поверхности от температуры отжига
6.3 Термическая стабильность островков нитрида бора
6.4 Циклическая нигридизация модифицированной бором поверхности кремния
6.4.1 ОЭС наблюдения
6.4.2 СХПЭЭ наблюдения
6.4.3 ДБЭ наблюдения
6.5 Выводы
Выводы
Примечание
Список литературы