- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Плазмохимическое осаждение углеродных нано- и микроструктур для применения в электронике
Тип роботи:
кандидатская
Рік:
2010
Кількість сторінок:
105
Артикул:
137556 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Особенности энерговклада в пространственно ограниченные ВЧ индуктивные источники плазмы низкого давления
- Импульсный источник питания с энергосодержанием до 20 МДж комплекса ГОЛ-3
- Эволюция плазмы в токамаке - моделирование и сравнение с экспериментом
- Теоретический и численный анализ нелинейных задач физики плазмы посредством кода КАРАТ
- Исследование параметров ионной компоненты CO2-лазерной плазмы и эффективная генерация многозарядных ионов
- Гетерогенные среды в электрическом поле
- Управление режимами обтекания с помощью сильнонеравновесной плазмы газового разряда
- Высокочастотный ионный источник для активной корпускулярной диагностики плазмы
- Особенности энергообмена электронных и колебательных уровней СО2 в ударно-нагретых потоках
- Газодинамические явления в газоразрядной плазме и средах с рэлеевским механизмом энерговыделения