- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Разработка и исследование технологии формирования активных диффузионных слоев элементов твердотельной электроники методом импульсной имплантации
Тип роботи:
кандидатская
Рік:
2002
Кількість сторінок:
148
Артикул:
233143 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Мощные лазеры на свободных электронах : Вопросы теории и применений
- Исследование влияния конструкции и электрофизических параметров р-п-р-п структур на переходные процессы в быстродействующих тиристорах
- Спиновые и коллективные эффекты в гетероструктурах InAs/AlSb с квантовыми ямами
- Разработка и исследование технологии формирования наноструктур на основе нитридов элементов III группы
- Компьютерное моделирование физических эффектов в кремниевых силовых диодах Шоттки
- Электронные свойства графена и других двумерных кристаллов
- Приборы с зарядовой связью со встроенной обработкой сигналов
- Повышение качества процессов получения диэлектрических покрытий : при изготовлении элементов РЭУ
- Электрофизические свойства и природа локализованных состояний в гетеропереходах на основе a-Si
- Моделирование туннельно-резонансного ЯМР квантового компьютера на основе твердотельных наноструктур