Исследование влияния неточности изготовления на дополнительные аберрации магнитных быстродействующих отклоняющих систем и квадрупольных линз

ОГЛАВЛЕНИЕ
Содержание Стр.
Введение
Глава 1 Анализ аберраций быстродействующих магнитных
ЗОЭ, имеющих плоскости симметрии.
1.1. Анализ электроннооптических систем современного
технологического оборудования
1.2. Аберрации отклоняющих систем..
1.3. Аберрации систем фокусировки и отклонения с
наложенными полями.
1.4. Аберрации квадрупольных линз и стигматоров
1.5. Паразитные аберрации
1.6. Выводы и постановка задачи
Глава 2 Выбор и реализация метода численного моделирования
влияния дефектов изготовления ЭОЗ на распределение магнитного поля и паразитные аберрации.
2.1. Отклонение электронного пучка магнитным полем.
2.2. Методы расчета траекторий электронного пучка в
магнитном поле.
2.2.1. Метод Мерсона.
2.3. Критерии количественной оценки влияния неточности
изготовления ЭОЭ на распределение магнитного поля
2.4. Методика и программное обеспечение для расчта
магнитного поля ЭОЭ
2.5. Методика и программное обеспечение для расчета влияния
различных дефектов изготовления ЭОЭ на величину паразитных аберраций.
2.6. Выводы у
Глава 3 Исследование методом численных экспериментов
влияния неточности изготовления магнитных отклоняющих систем на распределение создаваемых ими полей.
3.1. Введение
3.2. Анализ наиболее вероятных дефектов изготовления
отклоняющих систем.
3.3. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления отклоняющей системы на отклонение магнитного поля от идеального
3.4. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления на симметрию поля отклоняющей системы.
3.5. Выводы
Глава 4 Исследование методом численных экспериментов
влияния неточности изготовления магнитных корректирующих элементов на распределение
создаваемых ими полей.
4.1. Введение
4.2. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления КЛ на
отклонение магнитного поля от идеального
4.3. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления КЛ на
симметрию магнитного поля.
4.4. Выводы
Глава 5 Исследование траекторным методом влияния дефектов
изготовления на величину паразитных аберраций отклоняющих систем и квадрупольных линз
5.1. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления отклоняющей системы на величину паразитных аберраций.
5.2. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления квадрупольных
линз на величину паразитных аберраций
5.3. Исследование паразитных аберраций стигматоров
5.4. Выводы.
Глава 6 Исследование влияния дефектов изготовления на
электроннооптические параметры реальных ЗОЭ
6.1. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных дефектов изготовления на распределение магнитного поля и паразитные аберрации стигматора, используемого в объективной линзе просвечивающего электронного микроскопа
6.2. Результаты численных экспериментов по исследованию
влияния различных допусков изготовления на паразитные аберрации отклоняющих систем, используемых в электронном литографе
6.3. Выводы.
Заключение
Литература