- Киев+380960830922
Вы здесь
Введите ключевые слова для поиска диссертаций:
Низкочастотный тлеющий разряд и механизмы роста в нем пленок a-Si
Тип работы:
кандидатская
Год:
1999
Количество страниц:
197
Артикул:
232928 179 грн
Рекомендуемые диссертации
- Экспериментальное исследование бесконтактного формирования поверхностных наноструктур методом сканирующей туннельной микроскопии
- Структура и свойства низкотемпературных термоэлектрических материалов, полученных интенсивной пластической деформацией
- Получение и исследование свойств наногетерогенных структур на основе системы вольфрам-углерод
- Исследование кристаллогенезиса полупроводников A III B V из висмутсодержащих расплавов : На примере InSbBi, AlInSbBi
- Особенности кинетической ионно-электронной эмиссии с поверхности металлических и полупроводниковых пленочных материалов в процессе ионно-лучевого травления
- Физико-технологические основы пленочных термоэлектрических преобразователей измерительного назначения
- Влияние взаимодействия примесей и дефектов на процессы геттерирования в кремнии для планарной технологии
- Влияние взаимодействия примесей и дефектов на процессы геттерирования в кремнии для планарной технологии
- Повышение качества технологической среды сверхвысоковакуумного оборудования с алмазоподобными покрытиями трибологического назначения
- Солнечные элементы на основе аморфного гидрогенизированного кремния, полученные в низкочастотном тлеющем разряде