ОГЛАВЛЕНИЕ
Введение
Глава 1. Современные достижения в области методов и оборудования для нанесения покрытий при пониженных давлениях
1.1. Анализ моделей, описывающих взаимодействия плазмы газового разряда с порошкообразными веществами
1.2. Сравнительный анализ различных методов нанесения покрытий
1.2.1. Методы химического осаждения покрытий ХОП
1.2.2 Получение тонких пленок распылением материалов ионной бомбардировкой РИБ
1.2.3 Метод генерации потока осаждаемого вещества термическим испарением МТИ.
1.3 Постановка целей и задач работы
Глава 2. Модель процессов в плазме низкого давления при внесении в нее мелкодисперсного материала.
2.1. Основные исходные посылки при моделировании поведения мелкодисперсной частицы в плазме низкого давления
2.2. Основные уравнения модели в системе плазма низкого давления мелкодисперсный материал.
2.3. Баланс токов в системе плазма низкою давления мелкодисперсный материал определение величины и знака скачка потенциала у поверхности частицы
2.3.1. Основные составляющие баланса токов при внесении мелкодисперсного материала в плазму низкого давления.
2.3.2. Баланс токов в системе плазма низкого давления нанодисперсный материал в случае отрицательного падения потенциала у поверхности частицы
2.3.3. Баланс гоков в системе плазма низкою давления нанодисперсный материал в случае положительного падения потенциала у поверхности частицы
2.4. Баланс энергии в системе плазма низкого давления мелкодисперсный материал
2.4.1. Составляющие баланса мощности при внесении мелкдисперсного материала в плазму низкого давления при отрицательной разности потенциалов между плазмой и телом
2.4.2. Составляющие баланса мощности при внесении нанодисперсного материала в плазму низкого давления при положительной разности потенциалов между плазмой и телом.
2.5. Результаты расчета баланса мощностей для 8Ю2.
2.6 Выводы.
Глава 3. Динамика тспломассобмена и кинетики процессов нагрева, плавления и испарения нанодисперсного материала в плазме газового разряда низкого давления
3.1. Нагрев нанодисперсиой частицы до температуры плавления.
3.2. Плавление нанодисперсиой частицы. Фазовый переход твердое тело
жидкость
3.3. Нагрев нанодисперсиой частицы до температуры кипения.
3.4. Полное испарение расплава материала
3.5. Оценка времени испарения мелкодисперсной частицы из БЮ2 в плазме низкого давления.
3.6. Выводы.
Глава 4. Моделирование процессов в плазменных эмиссионных системах на
базе разрядов низкого давления
4.1. Моделирование процессов в газоразрядной камере с накаленным катодом
4.1.1. Процессы генерации ионов в газоразрядной камере с накаленным катодом
4.1.2. Функция распределения электронов по энергиям в газоразрядной камере с накаленным катодом.
4.1.3. Сечения ионизации, усредненные по функции распределения электронов
4.1.4. Процессы уничтожения ионов в плазме низкого давления
4.1.5. Вывод уравнений баланса частиц в газоразрядной камере
с накаленным катодом.
4.1.6. Результаты решения уравнения баланса в газоразрядной камере с накаленным катодом
4.2. Моделирование процессов теплообмена частиц в прикатодной плазме вакуумной дуги
4.3. Выводы
Глава 5. Плазменная эмиссионная система дуонлазматронного типа для нанесения пленок из веществ в мелкодисперсной фазе.
5.1. Особенности разрядных процессов в дуоплазматроне А типа
5.2 Исследование предельных режимов протекания тока в разряде с двойным контрагированием.
5.2.1. Расчет частот ионизации атомов электронным ударом.
5.2.2. Условия обрыва тока в разряде с двойным контрагированием.
5.2.3.Сравнение расчетных результатов с экспериментальными данными и их обсуждение
5.3. Газоразрядная камера тина дуоплазматрон для нанесения покрытий из веществ в мелкодисперсной фазе.
5.4. Результаты тестирования полученных покрытий.
5.5. Выводы
Заключение.
Литература
- Киев+380960830922