Ви є тут

Исследование взаимодействия оксида бора с поверхностью Si(III) методом дифракции быстрых электронов

Автор: 

Шапоренко Андрей Павлович

Тип роботи: 

Кандидатская

Рік: 

1999

Артикул:

1000217621

179 грн

Додати в кошик

• 
• 
• 

Рекомендовані дисертації

• ЭПР и закономерности распределения парамагнитных точечных дефектов в кристаллах
• Сегрегационные проявления эффекта дальнодействия в медно-никелевых фольгах при ионной имплантации
• Магнитные фазовые переходы и изменение спинового состояния в сложных оксидах кобальта при воздействии высоких давлений
• Суперпротонные фазовые переходы и процессы твердофазного распада в кристаллах кислых сульфатов и фосфатов щелочных металлов
• Импеданс нанопористых оксидов алюминия и титана с адсорбированной водой вблизи фазового перехода вода - лед
• Влияние давления на стабильность электронных и магнитных состояний систем на основе 3d- и 4f-элементов
• Связь особенностей электронной структуры высокотемпературных сверхпроводников с формой их рентгеновских и электронных спектров
• Закономерности двойникования поликристаллического ОЦК сплава Fe-Si в широком интервале температур и скоростей нагружения
• Развитие динамических моделей управления ростом кристаллов при реконструкивных мартенситных превращениях
• Сверхтонкие взаимодействия в манганитах