Взаимодействие вакуумного ультрафиолетового излучения с тонкими неорганическими пленками

СОДЕРЖАНИЕ
Содержание
Введение
Глава 1. Современные проблемы литографии
1.1 Основные понятия литографии
1.1.1 Фотолитография, ее свойства
1.1.2 Фоторезисты. Классификация. Основные характеристики 1.1.3. Основные технологические факторы в
полупроводниковом производстве
1.2 Успехи фотолитографии
1.2.1. Неоптические методы литографии
1.2.2.Сравнение оптических и неоптических видов литографии.
1.2.3. Оптическая литография
1.2.4. Рентгеновская технология.
1.3. Основные области использования ВУФ излучения в полупроводниковой технологии
1.4. Фоторезисты для ВУФ.
1.4.1. Применения неорганических резистов
1.5. Источники ВУФ.
1.5.1. Эксимерные лазеры.
1.5.2. Лазерноплазменные источники
1.5.3. Лазеры с диодной накачкой.
Заключение
Глава2. Методика эксперимента.
2.1 Общие принципы работы эксимерных лазеров и их
технические характеристики.
2.1.1. Основы работы эксимерных лазеров
2.1.2. Выходная стабильность.
2.1.3. Пространственная неоднородность.
2.1.4. Спектральная ширина.
2.1.4. Пространственная когерентность
2.2. Описание экспериментальной установки
2.3. Описание технологического блока.
Глава 3. Создание периодических структур с характерными размерами, меньшими длины волны актиничного излучения
3.1. Расчет распределения интенсивности на поверхности фоторезиста в условиях контактной литографии
3.2. Получение периодических структур с шириной полосы
0.1 мкм контактной печатью на тонких пленках сульфида мышьяка при использовании импульсного излучения эксимерного лазера.
Выводы
Глава 4. Фотоиндуцированные трансформации, вызванные излучением высокой мощности.
4.1 Моделирование фотохимических превращений и
фотопотемнения пленок фоторезистов под действием импульсного вакуумного ультрафиолетового излучения
4.2. Эффект усиления контраста передачи изображения при взаимодействии вакуумного ультрафиолетового излучения с
пленками неорганических фоторезистов
Выводы
Глава 5. Исследование абляции тонких пленок неорганических материалов под действием излучения эксимерного лазера.
5.1. Исследование абляции аморфных алмазоподобных пленок
5.2. Исследование абляции пленок оксида индия
5.3 Исследование абляции пленок оксида титана
5.4 Исследование воздействия излучения эксимерного лазера на пленки оксида хрома и твердых растворов сульфида
самариясульфида иттрия
Выводы
Заключение
Список литературы