Вы здесь

Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования

Автор: 

Ивин Владимир Владимирович

Тип работы: 

кандидатская

Год: 

2000

Количество страниц: 

146

Артикул:

1000306705

179 грн

Добавить в корзину

• 
• 
• 

Рекомендуемые диссертации

• Исследование хемосорбционного взаимодействия при формировании приповерхностных легированных слоев в полупроводниках и пленок на их поверхности в технологических процессах диффузии и осаждения
• Высокоскоростные операционные усилители с токовой обратной связью и высоким уровнем динамической точности
• Разработка технологии изготовления и исследование сенсорных элементов на основе полиакрилонитрила и соединений меди
• Исследование процессов формирования контактов и границы активного слоя с целью повышения воспроизводимости и улучшения характеристик СВЧ полевых транзисторов
• Исследование и разработка функциональных узлов интегральных контроллеров источников вторичного электропитания с высокой стабильностью выходного напряжения
• Импедансные свойства и характеристики варакторных полупроводниковых структур
• Электрофизические свойства нанокомпозитов на основе SnO2: ZrO2 и SnO2 с добавлением многостенных углеродных нанотрубок
• Структура и электронные характеристики пиролизованного полиакрилонитрила
• Структурные и оптические свойства нанометровых модулированно-легированных гетероструктур с квантовыми точками в системе InAs/GaAs
• Разработка и исследование технологических основ создания пленок полимерных нанокомпозитов с углеродными наноструктурами для устройств микроэлектронной сенсорики