Ви є тут

Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования

Автор: 

Ивин Владимир Владимирович

Тип роботи: 

кандидатская

Рік: 

2000

Кількість сторінок: 

146

Артикул:

1000306705

179 грн

Додати в кошик

• 
• 
• 

Рекомендовані дисертації

• Конструктивно-технологические особенности разработки гибридных силовых модулей
• Разработка и анализ зондовых микромеханических устройств
• Молекулярно-лучевая эпитаксия низкоразмерных систем на основе гетероструктурных и δ-легированных квантовых ям на подложках GaAs различной ориентации
• Модификация процесса монтажа проволочных и ленточных выводов к кристаллам силовых полупроводниковых приборов
• Структурные и физические свойства пленок SiCx и SnOx, синтезированных различными методами
• Оптимизация технологии процессов получения буферных слоев и защитных покрытий для фотоприемников на основе фосфида индия
• Фокусирующая Френелевская оптика скользящего падения
• Диагностика источников электронов по двумерным изображениям
• Исследование и разработка процессов плазменного травления функциональных слоев СБИС с использованием источников высокоплотной плазмы
• Исследование возможности создания мозаичных фотоприемников без потерь информации в изображении