- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования
Тип роботи:
кандидатская
Рік:
2000
Кількість сторінок:
146
Артикул:
1000306705 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Математическое моделирование электронных процессов в полевых и биполярных транзисторах на основе соединений A3 B5
- Полупроводниковые приборы на основе явлений токовой неустойчивости в p-n-переходах и омических контактах малого размера
- Электрофизические свойства нанокомпозитов на основе SnO2: ZrO2 и SnO2 с добавлением многостенных углеродных нанотрубок
- Термически- и радиационно-стойкие контакты металл-карбид кремния для приборов экстремальной электроники
- Разработка литографических методов и спецоборудования для создания СБИС и транзисторных структур с субмикронными размерами элементов
- Технологические основы создания твердотельных сенсоров газов на основе нанокомпозитных оксидных материалов
- Методы зондовой диагностики микроструктур
- Конструктивно-технологические особенности разработки гибридных силовых модулей
- Конверсионная модель эффекта низкой интенсивности в биполярных интегральных микросхемах космического назначения
- Исследование и разработка методов повышения производительности интегральных схем реконфигурируемых вычислительных систем