Влияние емкостной составляющей на характеристики индуктивного ВЧ разряда низкого давления

Оглавление
Введение
Глава 1 Обзор литературы
1.1 Введение
1.2 Индуктивный ВЧ разряд без магнитного поля.
1.2.1 Проникновение полей в плазму.
1.2.2 Поглощение ВЧмощности плазмой
1.3 Индуктивный ВЧ разряд, помещенный во внешнее магнитное поле, способствующее возбуждению геликонов и косых Ленгмюровских
1.4 Понятие эквивалентного сопротивления
1.5 Баланс мощности во внешней цепи индуктивного ВЧ разряда.
Глава 2 Экспериментальные установки и методика измерений.
2.1 Экспериментельные установки.
2.2 Схемы источников плазмы.
2.3 Способы организации разряда
2.4 Экспериментальная методика измерений величины
ВЧ мощности, поглощенной плазмой.
2.5 Диагностика плазма
Глава 3 Особенности индуктивного ВЧ разряда низкого давления,
горящего в режиме КР1ипГ.
3.1 Особенности индуктивного ВЧ разряда, наблюдаемые
при изменении величины мощности ВЧ генератора.
3.2 Особенности индуктивного ВЧ разряда, наблюдаемые при изменении величины магнитного поля
3.3 Динамика параметров плазмы и величины поглощенной ВЧ
мощности при изменении внешнего магнитного поля.
3.4 Влияние эффективного сопротивления антенны на свойства индуктивного ВЧ разряда
3.5 Результаты численного моделирования.
Глава 4 Влияние емкостной составляющей на свойства индуктивного
ВЧ разряда низкого давления.
4.1 Зависимость параметров плазмы от мощности ВЧ генератора.
4.2 Зависимость параметров плазмы от магнитного поля.
4.3 Самосогласованная модель разряда с независимыми индуктивным и емкостным каналами
4.4 Результаты математического моделирования
Заключение.
Список литературы