Ви є тут

Влияние преципитации и изоэлектронной ионной имплантации на дефектообразование в монокристаллическом кремнии

Автор: 
Джабраилов Тайяр Акбер оглы
Тип роботи: 
кандидатская
Рік: 
2001
Кількість сторінок: 
100
Артикул:
1000331186
179 грн
Додати в кошик

Вміст

Содержание работы
Введение
Глава 1. Точечные дефекты в кремнии
1.1.рецинитация кислорода в кремнии и сопутствующие ей
дефекты
1.2. Кислород в процессе внутреннего геттерирования
1.3. Точечные дефекты в имплантированном кремнии
1.4. Дивакансии в кремнии Глава 2. Процессы переноса заряда поверхностнобарьерных диодов на
основе кремния
2.1. Технология изготовления поверхностнобарьерных диодов
2.2. Анализ механизма протекания тока в контактах металл
полупроводник.
2.2.1. Экспериментальная установка для метода вольтамперных
характеристик
2.2.2 Проверка механизма токопрохождения в барьерах Шоттки
2.3. Анализ вольтфарадных характеристик барьеров Шоттки
2.3.1. Оценка толщины окисного слоя и погрешности в измерениях емкости
2.3.2. Экспериментальная установка для метода вольтфарадных характеристик и определение параметров диодов
Выводы к главе 2
Глава 3. Преципитация кислорода в кремнии
3.1. Влияние технологического отжига на электрические характеристики диодов Шоттки
3.2. Исследование влияния преципитации кислорода на
дефектообразовнис в кремнии методом ТСЕ
3.2.1. Методика эксперимента по термостимулированной емкости.
3.2.2. Погрешности, возникающие при определении параметров ГЦ методом ТСЕ.
3.2.3. Установка для эксперимента по ТСЕ
3.2.4. Результаты измерений по ТСЕ и их обсуждение
Выводы к главе 3 .
Глава 4 Исследование кремния, имплантированного ионами углерода
4.1.Фотопроводимость кремния, имплантированного ионами углерода
4.1.1. Время затухания фотопроводимости
4.1.2. Влияние центров прилипания и рекомбинации на время жизни носителей
4.1.3. Затухание фотопроводимости в тонких пленках
4.1.4 Изготовление электрических контактов к образцам
4.1.5 Экспериментальная установка для измерения фотопроводимости
4.1.6 Методика определения времени затухания фотопроводимости
4.2. Исследование кремния, имплантированного ионами углерода методом ТСЕ.
Выводы к главе 4
Выводы к диссертации
Список научных трудов автора
Список использованной литературы