Вы здесь

Низкочастотный тлеющий разряд и механизмы роста в нем пленок a-Si: H и сплавов на его основе

Автор: 

Попов Александр Афанасьевич

Тип работы: 

Кандидатская

Год: 

1999

Артикул:

1000231349

179 грн

Добавить в корзину

• 
• 
• 

Рекомендуемые диссертации

• Исследование процессов, разработка и создание аппаратуры для стирания информации с носителей на основе микросхем с энергонезависимой памятью
• Разработка и исследование физико-технологических принципов создания микроэлектронных устройств на основе планарных многослойных гетероэпитаксиальных структур Si, CaF2 и CoSi2, сформированных методом молекулярно-лучевой эпитаксии
• Физико-технологические основы управления процессами дефектообразования в кремниевых полупроводниковых структурах
• Физико-технические принципы построения, разработка и применение высокоэнергетичных ионных имплантеров
• Разработка тонкопленочных сорбентов и микроэлектронных химических сенсоров на их основе для контроля содержания вредных и токсичных газов в атмосфере
• Исследование и разработка технологического процесса лазерной полировки стекломатериалов в приборостроении и электронной технике
• Технология и исследование конденсаторных структур на основе сегнетоэлектрических пленок цирконата-титаната свинца
• Метод химического осаждения из растворов для создания активных и изолирующих диэлектрических слоев интегральных схем
• Разработка интегральных термосенсоров на основе монокристаллической кремниевой фольги и исследование их характеристик
• Экспериментальное исследование бесконтактного формирования поверхностных наноструктур методом сканирующей туннельной микроскопии