- Київ+380960830922
Ви є тут
Введіть ключові слова для пошуку дисертацій:
Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования
Тип роботи:
кандидатская
Рік:
2000
Кількість сторінок:
146
Артикул:
1000306705 179 грн
Рекомендовані дисертації
- Оптимизация технологии процессов получения буферных слоев и защитных покрытий для фотоприемников на основе фосфида индия
- Создание высокоэффективных теплоотводов на основе поликристаллического алмаза для мощных полупроводниковых приборов
- Осаждение пленок и отжиг радиационных дефектов в кремниевых структурах при воздействии ИК и УФ излучений
- Методы зондовой диагностики микроструктур: теория, моделирование и обратные задачи
- Разработка процессов формирования диэлектрических пленок и микроэлектронных систем для интегральной электроники
- Исследование влияния конструкции и электрофизических параметров р-п-р-п структур на переходные процессы в быстродействующих тиристорах
- Разработка теоретических основ проектирования сенсоров давления с тензочувствительными элементами специальной формы
- Методы получения и характеристики полиимид - кремниевых микроактюаторов и устройств микромеханики на их основе
- Статистическая теория нестационарных лавинно-пробойных процессов в кремниевых планарных фотодиодных структурах
- Тонкопленочные структуры молибден-медь с эффектом близости и сверхпроводниковым переходом для сверхчувствительных субмиллиметровых болометров