Ви є тут

Новые технохимические процессы и оборудование жидкостного химического снятия слоев полимеров в планарном микроэлектронном производстве

Автор: 
Ковалев Анатолий Андреевич
Тип роботи: 
кандидатская
Рік: 
2000
Кількість сторінок: 
225
Артикул:
232908
179 грн
Додати в кошик

Вміст

СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
1 лава 1 СОВРЕМЕННОЕ СОСТОЯНИЕ, КЛАССИФИКАЦИЯ И
ОСНОВНЫЕ ПАРАМЕТРЫ ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ПРОВЕДЕ
ИЯ ПР1ЕССОВ УДАЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ СЛОЕВ С
ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИН
1.1. Специальное технологическое оборудование для сухого снятия фоторезистивных слоев
1.1.1. Классификация оборудования для сухой обработки пластин.
1.1.2. Основные технические и технологические параметры оборудования для сухой обработки
1.2. Специальное технологическое оборудование для
жидкостного химического снятия ЖХС фоторезистивных слоев.
1.2.1. Классификация оборудования для жидкостной обработки пластин.
1.2.2. Основные технические и технологические
параметры оборудования для жидкостного химического снятия фоторезистивных слоев
1.3. Спецтехнолошческое оборудование для жидкостною химического снятия фоторезистивных слоев, включающее системы регенерирования отработанных растворов
1.3.1. Тенденции развития и общее состояние проблемы .
1.3.2. Оборудование для ЖХС фоторезистивных слоев с поверхности полупроводниковых пластин, основанное на процессах высокотемпературной дистилляционной рекуперации.
1.4. Постановка задач исследований.
Выводы.
Глава 2 РАЗРАБОТКА ТЕХНОХИМИЧЕС.КИХ ПРОЦЕССОВ ЖХС ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО СИНТЕЗА РАСТВОРОВ СЕРНОЙ КИСЛОТЫ. .
2.1. Оценка возможности использования электрохимического синтеза кислотных растворов.
2.2. Анализ использования электрохимически синтезированных растворов и выбор оптимальных режимов процесса окисления фоторезиста вных слоев
2.3. Расчеты аппаратурнотехнологической реализации процесса ЖХС фоторезистивпых слоев с учетом механизмов реакции и
их кинетических закономерностей.
2.4. Влияние природы электродного материала на процесс электрохимического синтеза растворов ЖХС
Выводы
Глава 3 ПРИНЦИПЫ ПОСТРОЕНИЯ ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ РОВЕДЕНИЯ БЕЗОТХОДНЫХ ТЕХНОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ЖХС ФОТОРЕЗИСТИВНЫХ СЛОЕВ.
3.1. Анализ модификаций блоков электрохимического синтеза
3.2. Блоки электрохимического синтеза растворов ЖХС, их очистки
и рекуперации.
3.2.1. Выбор материала анода для блока электрохимического синтеза растворов ЖХС, их очистки и рекуперации
3.2.2. Расчет параметров анода блока электрохимического синтеза растворов ЖХС, их очистки и рекуперации
3.3. Принципы блочно модульной реализации технохимического оборудования на основе электрохимического синтеза растворов ЖХС, их очистки и рекуперации.
Выводы.
4. ПРАКТИЧЕСКОЕ ПРИМЕНЕНИЕ СПЕЦИАЛЬНОГО ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ И НОВЫХ ТЕХ1ЮХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ. РЕЗУЛЬТАТЫ
ЭКСПЕРИМЕТАЛБНОГО И ПРОМЫШЛЕННОГО
4.1.1. Определение компонентного состава технологических растворов ЖХС методами титриметрической индикат
4.1.2. Аналитические методы феделения примесного состава технологических растюров ЖХС методом инверсионной вольтамперометрии. Аппаратура и средства измерения
4.1.3. Определение органических загрязнений растворов ЖХС методом жидкофазного окисления органических примесей с титриметрической индикацией
4.2. Определение степени окисления фоторезиста вных слоев технологическими растворами ЖХС.
4.3. Контроль параметров структур полупроводниковых подложек
после проведения процессов ЖХС
4.3.1. Контроль параметров поверхности полупроводниковых
подложек после проведения процессов ЖХС методом
ИСПОЛЬЗОВАНИЯ
4.1. Анализ методов и средств контроля растворов ЖХС
ОжеСПСКТрОСКО 1 ИИ
4.3.2. Анализ качества поверхности полупроводниковых подложек после проведения процессов ЖХС по уровням привносимой дефектности
4.3.3. Анализ качества поверхности полупроводниковых подложек после проведения процессов ЖХС по электрофизическим параметрам
4.4. Результаты внедрения нового снецтехнологического
оборудования и техпроцессов ЖХС
Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА