Ви є тут

Исследование пленок нитрида галлия, выращенных методом хлоридгидридной газофазной эпитаксии

Автор: 
Цюк Александр Игоревич
Тип роботи: 
кандидатская
Рік: 
2011
Кількість сторінок: 
170
Артикул:
140919
179 грн
Додати в кошик

Вміст

Оглавление
Введение
1 Получение нитрида галлия
1.1 История развития
1.2 Технология.
1.2.1 Методы роста нитрида галлия.
1.2.2 Подложки для гетероэпитаксии
1.3 Напряжения в нитриде галлия.
1.3.1 Напряжение, вызываемые рассогласованием решеток растущего слоя и подложки
1.3.2 Термоиапряжеиие.
1.3.3 Ростовое напряжение в нитриде галлия
1.3.4 Методы измерения механического напряжения в пленках
1.3.5 Причины возникновения ростового напряжения.
1.4 Заключение.
2 Рентгеноструктурное исследование кристаллов нитрида галлия
2.1 Исследование кристаллического совершенства дифракционными методами
2.1.1 Взаимодействие кристаллической решетки с плоской волной
2.1.2 Двухосевая рентгеновская дифрактометрия.
2.1.3 Трехосевая рентгеновская дифрактометрия.
2.1.4 Определение плотности дислокаций дифракционными методами
2.1.5 Заключение.
2.2 Дифрактометр ДРОН4.
2.2.1 Постановка задачи
2.2.2 Автоматизация дифрактометра
2.2.3 Коллиматор первичного пучка
2.2.4 Держатели образцов.
2.2.5 Анализатор дифрагированного пучка
2.2.6 Юстировка модернизированного дифрактометра
2.2.7 Определение профиля интенсивности в пучке
2.3 Характеризация пленок нитрида галлия
2.3.1 Инструментальные искажения в дифрактомстрии .
2.3.2 Методика измерения кривых качания
2.3.3 Методика измерения кривизны .
2.3.4 Исследование пленок ваК на сапфире.
2.3.5 Исследование толстых свободных слоев ваК
2.3.6 Исследование образцов, выращенных на сапфире с маской
2.4 Заключение
3 Режимы роста нитрида галлия
3.1 Механизмы роста кристаллов.
3.1.1 Влияние технологических параметров на механизм роста нитрида галлия.
3.2 Методы шэйи наблюдения механизмов роста.
3.2.1 Поверхностная рентгеновская дифракция.
3.2.2 Метод оптической рефлектометрии.
3.3 Экспериментальное наблюдение механизмов роста нитрида галлия .
3.3.1 Температура и скорость роста
3.3.2 Соотношение У1 II .
3.3.3 Буферные слои и обработка поверхности.
3.3.4 Свойства нитрида галлия, выращенного в разных режимах
3.4 Режимы роста нитрида галлия при ХГФЭ
3.4.1 Установка ХГФЭ
3.4.2 Экспериментальное исследование ХГФЭ режимов роста
нитрида галлия .
3.4.3 Переходы между режимами.
3.4.4 Использование двустадийного метода
3.5 Заключение
Заключение
Благодарности
Публикаций автора
Список литературы